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電感耦合等離子真空腔體

2025-05-24

產(chǎn)      地:
鄭州高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)西三環(huán)路289號6幢11單元3層73號
所在地區(qū):
河南鄭州市
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電感耦合等離子真空腔體是一種石英材料制成的封閉腔室,內(nèi)部常常充滿等離子體氣體。等離子體是一種高溫、高密度的氣體,由帶正電荷的離子和帶負電荷的電子組成,具有導電性能。這種石英腔可以用于等離子體物理研究、等離子體加工技術(shù)以及材料表面改性等領(lǐng)域。

電感耦合等離子真空腔體可以有效地將等離子體與外界隔離,從而提高等離子體的純度和密度,同時保護外部設備不受等離子體的影響。例如,在半導體制造過程中,石英腔可以通過對氣體進行高頻電場激勵來產(chǎn)生等離子體,用于蝕刻、沉積和表面改性等工藝。此外,石英腔還能保持良好的熱穩(wěn)定性和耐腐蝕性,使其能夠在高溫、高壓和高氧化性的環(huán)境下,長期運行。

電感耦合等離子(Inductively Coupled Plasma,ICP)和電容耦合等離子(Capacitively Coupled Plasma,CCP)是兩種廣泛用于實驗室中的等離子體源。它們的主要區(qū)別在于它們產(chǎn)生等離子體的機制和特點。

ICP是在高整流器運作的RF(射頻)電源提供的高頻RF(常見頻率是27.12 MHz)的作用下工作的,而這個RF電源將產(chǎn)生的高頻電場通過感應耦合傳送到氣體放電管(都柏林管)內(nèi)。這種電場產(chǎn)生了交變電壓,導致氣體分子發(fā)生電離,產(chǎn)生了等離子體。ICP的優(yōu)點在于它可以產(chǎn)生非常高的電子溫度和較高的等離子體密度,并用于產(chǎn)生高靈敏度的熒光譜檢測。

另一方面,CCP是通過直接應用高頻電場在帶電片和反電極之間產(chǎn)生的交變電場來產(chǎn)生等離子體的。這種電場使電極表面產(chǎn)生周期性的荷電狀態(tài)變化,從而促進了等離子體的生成。CCP的優(yōu)點是其低能耗和簡單的結(jié)構(gòu),但它通常只能產(chǎn)生低電子溫度和低等離子體密度的等離子體,因此在熒光譜檢測方面使用較少。

因此,這兩種等離子體產(chǎn)生技術(shù)在實驗室中都得到廣泛應用,并根據(jù)所需的特定應用和實驗室條件進行選擇。

技術(shù)規(guī)格參數(shù):

腔體材質(zhì):鋁合金+石英玻璃

腔體尺寸:內(nèi)徑110mmx深度220MM

腔體容積:2.5L

腔體觀察窗:內(nèi)徑φ35   石英玻璃

腔體抽氣口:KF16

腔體進氣口:6MM卡套

腔體真空度:機械泵小于等于0.5Pa  




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