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gh-13mm 等離子清洗機(jī)處理原理及優(yōu)點(diǎn)

參考價(jià)1000000.00
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 昆山國(guó)華電子科技有限公司
  • 品牌其他品牌
  • 型號(hào)gh-13mm
  • 所在地蘇州市
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間2019/10/15 14:22:20
  • 訪問次數(shù) 439
產(chǎn)品標(biāo)簽

等離子清洗機(jī)

規(guī)格
GH-13MM1000000.00元100000 臺(tái)可售

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昆山國(guó)華電子科技有限公司是一家集等離子技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和推廣于一體的高科技公司:秉承“服務(wù)創(chuàng)造價(jià)值、技術(shù)成就未來”的宗旨,為客戶提供表面處理領(lǐng)域的整體解決方案。

等離子清洗機(jī),超低溫等離子設(shè)備,等離子表面處理設(shè)備,電漿機(jī)

產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,石油,電子/電池

等離子清洗機(jī)處理原理及優(yōu)點(diǎn)

一、等離子清洗機(jī)的表面改性

1 清洗作用:去除基體表面的弱鍵以及典型-CH 基有機(jī)污染物和氧化物。

主要特點(diǎn): 只對(duì)材料表面起作用而對(duì)內(nèi)部無任何侵蝕, 得到超高潔凈表面為下道工序做好準(zhǔn)備。

2 刻蝕作用:是利用典型的氣體組合形成具有強(qiáng)烈蝕刻性的氣相等離子體與物體表面的有機(jī)物基體發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成其他比如 CO、CO2、H2O 等氣體,從而達(dá)到蝕刻的目的。主要特點(diǎn):刻蝕均勻;不傷害工件基體;能有效去除表面異物,達(dá)到理想刻蝕度。

3 活化作用: 使基體表面形成 C=O 羰基 (Carbonyl) 、 -COOH 羧基(Carboxyl) 、 OH 羥基 (Hydroxyl)三種基團(tuán)。這些基團(tuán)具有穩(wěn)定的親水功能,對(duì)粘接有積極作用。

主要特點(diǎn):可使聚合物表面出現(xiàn)部分活性原子、自由基和不飽和鍵,這些活性基團(tuán)與等離子體中的活性粒子發(fā)生反應(yīng)生成新的活性基團(tuán),從而增加表面能量,改變表面的化學(xué)特性,增強(qiáng)表面附著力、粘結(jié)力。

4 涂層(接枝、沉積)作用:在等離子涂鍍中兩種氣體同時(shí)進(jìn)入反應(yīng)艙,氣體在等離子環(huán)境下會(huì)聚合。這種應(yīng)用比活化和清洗的要求要嚴(yán)格一些。典型的應(yīng)用是保護(hù)層的形成,應(yīng)用于燃料容器、防刮表面、類似聚四氟乙烯(PTFE)材質(zhì)的涂鍍、防水鍍層等。

主要特點(diǎn): 可使材料表面分子鏈發(fā)生斷裂產(chǎn)生新的自由基、雙鍵等活性基團(tuán), 隨之發(fā)生交聯(lián)、 接枝等反應(yīng);同時(shí)活性氣體會(huì)在材料表面聚合產(chǎn)生一層沉積層,此沉積層的存在將*地提高材料表面的粘接、涂覆和印刷的結(jié)合力。

等離子清洗機(jī)處理原理及優(yōu)點(diǎn)

二、等離子體清洗原理
通過化學(xué)或物理作用對(duì)工件表面進(jìn)行處理,實(shí)現(xiàn)分子水平的污染物去除(一般厚度為幾個(gè)~幾十個(gè)納米),從而提高工件表面的活性。被清除的污染物可能為有機(jī)物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、氧化物、微顆粒污染物等。對(duì)應(yīng)不同的污染物,應(yīng)采用不同的清洗工藝,根據(jù)選擇的工藝氣體不同,等離子清洗分為化學(xué)清洗、物理清洗及物理化學(xué)清洗。
1 化學(xué)清洗:表面作用以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗,又稱 PE。

從反應(yīng)式可見,氧等離子體通過化學(xué)反應(yīng)可使非揮發(fā)性有機(jī)物變成易揮發(fā)的
H2O 和 CO2。

從反應(yīng)式可見,氫等離子體通過化學(xué)反應(yīng)可以去除金屬表面氧化層,清潔金
屬表面。
2 物理清洗:表面作用以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗,也叫濺射腐蝕(SPE)。



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