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超快瞬態(tài)吸收顯微成像系統(tǒng)
- 公司名稱 上海波銘科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/5/6 19:29:50
- 訪問(wèn)次數(shù) 1979
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光學(xué)測(cè)試系統(tǒng);光源/激光器;光譜儀;光電探測(cè)器;電子數(shù)據(jù)采集器;光學(xué)平臺(tái);電動(dòng)位移臺(tái);手動(dòng)位移臺(tái);調(diào)整架;光學(xué)元件
超快瞬態(tài)吸收顯微成像系統(tǒng)
該系統(tǒng)設(shè)計(jì)與奧林巴斯倒置顯微鏡和高速CMOS相機(jī)相結(jié)合,用于檢測(cè)微納樣品的光激發(fā)載流子動(dòng)力學(xué)可視化過(guò)程;同時(shí)具備微區(qū)瞬態(tài)反射(透射)光譜和動(dòng)力學(xué)測(cè)試功能。系統(tǒng)同時(shí)具備超快時(shí)間分辨(飛秒)和最高500nm的空間分辨能力。
主要技術(shù)指標(biāo)
微區(qū)光譜探測(cè)范圍 | 400-1500nm |
檢測(cè)模式 | 透射/反射/微區(qū)/成像 |
最高空間分辨率 | 500nm |
最高時(shí)間分辨率 | 1.5倍激光脈寬 |
時(shí)間窗口 | 8ns |
成像波段范圍 | 400-800nm |
成像像素點(diǎn) | 640×480 |
零點(diǎn)前信噪比 | ≤0.2mOD |
設(shè)備拓展性 | 可拓展常規(guī)樣品室,實(shí)現(xiàn)380-1650nm瞬態(tài)吸收光譜測(cè)試 可與低溫恒溫器、探針臺(tái)、電學(xué)調(diào)控裝置和外部磁體耦合 |
應(yīng)用實(shí)例1 – 微區(qū)透射測(cè)試 | |||
實(shí)驗(yàn)條件 | |||
激發(fā)光波長(zhǎng) | 515nm | 掃描延遲時(shí)間點(diǎn)數(shù) | 159 |
物鏡倍數(shù) | 50X | 掃描次數(shù) | 3次 |
每點(diǎn)積分時(shí)間 | 1.2s | 總測(cè)試時(shí)間 | 9min45s |
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應(yīng)用實(shí)例2 – 微區(qū)反射測(cè)試 | |||
實(shí)驗(yàn)條件 | |||
激發(fā)光波長(zhǎng) | 515nm | 掃描延遲時(shí)間點(diǎn)數(shù) | 59 |
物鏡倍數(shù) | 50X | 掃描次數(shù) | 3次 |
每點(diǎn)積分時(shí)間 | 1.2s | 總測(cè)試時(shí)間 | 9min45s |
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應(yīng)用實(shí)例3 – 寬場(chǎng)TA成像 | |||
實(shí)驗(yàn)條件 | |||
激發(fā)光波長(zhǎng) | 515nm | 采集頻率 | 1K赫茲 |
探測(cè)光波長(zhǎng) | 660nm | 單幅照片積分時(shí)間 | 1s |
樣品名稱 | 單層WS2(基底:藍(lán)寶石) | 掃描點(diǎn)數(shù) | 159 |
物鏡倍數(shù) | 50X | 掃描次數(shù) | 5次 |
探測(cè)尺寸 | 30X45微米 | 總測(cè)試時(shí)間 | 16min |
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應(yīng)用實(shí)例4-載流子擴(kuò)散成像 | |||
實(shí)驗(yàn)條件 | |||
激發(fā)光波長(zhǎng) | 400nm | 單幅照片積分時(shí)間 | 6 s |
探測(cè)光波長(zhǎng) | 650nm | 掃描點(diǎn)數(shù) | 109 |
樣品名稱 | Bi202Se單晶 | 掃描次數(shù) | 1次 |
物鏡倍數(shù) | 50X | 總測(cè)試時(shí)間 | 11min |
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