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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>無掩模光刻機(jī)/直寫光刻機(jī)>MKW-200 直寫光刻機(jī)/無掩膜光刻機(jī)

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MKW-200 直寫光刻機(jī)/無掩膜光刻機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家專業(yè)的微納材料、半導(dǎo)體和微電子材料及器件研發(fā)儀器及設(shè)備的供應(yīng)商,所銷售的儀器設(shè)備廣泛用于高校、研究所、以及半導(dǎo)體和微電子領(lǐng)域的高科技企業(yè)。目前總部在上海,香港、南通、深圳、北京分別設(shè)立分公司和辦事處,快速響應(yīng)客戶需求。同時(shí)上海麥科威在快速擴(kuò)展海外市場(chǎng),并設(shè)立新加坡分公司,輻射東南亞市場(chǎng)。

      上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司主要銷售產(chǎn)品包括:  - 霍爾效應(yīng)測(cè)試儀;  - 快速退火爐;  - 回流焊爐,共晶爐,釬焊爐,真空燒結(jié)爐;  - 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī),熱蒸發(fā)鍍膜機(jī);  - 探針臺(tái),低溫探針臺(tái),微探針臺(tái);  - 金剛石劃片機(jī); - 球焊機(jī),鍥焊機(jī);  - 磁控濺射鍍膜機(jī);  - 原子層沉積系統(tǒng),等離子增強(qiáng)原子層沉積設(shè)備;  - 電化學(xué)C-V剖面濃度分析儀(ECV Profiler); - 掃描開爾文探針系統(tǒng); - 光學(xué)膜厚儀; -貼片機(jī)-PECVD\CVD;-脈沖激光沉積系統(tǒng)-PLD-納米壓??;-等離子清洗機(jī)、去膠機(jī);-反應(yīng)離子刻蝕RIE; - 光刻機(jī)、無掩膜光刻機(jī); - 勻膠機(jī); - 熱板,烤膠板; -少子壽命、太陽(yáng)能模擬器;-NMR-瞬態(tài)能譜儀-外延沉積-等離子清洗機(jī)-離子注入-劃片機(jī)、裂片機(jī)光刻機(jī)(針尖/電子束光刻機(jī)EBL,紫外光刻機(jī),激光直寫光刻機(jī)),鍍膜機(jī)(磁控濺射機(jī),電子束蒸發(fā)機(jī),化學(xué)沉積機(jī),微波等離子沉積機(jī),原子層沉積機(jī)  等等…

企業(yè)客戶:華為技術(shù)有限公司, 深圳市鵬芯微集成電路制造, 深圳清力技術(shù), 安徽格恩半導(dǎo)體, 蘇州稀晶半導(dǎo)體科技, 矽品半導(dǎo)體, 廈門海辰新能源科科, 中核同創(chuàng)(成都)科技, 洛瑪瑞芯片技術(shù)(常州),偉創(chuàng)力科技, 奧普科星河北科技,廣東五星太陽(yáng)能,廣東萬(wàn)和集團(tuán),西安西測(cè)股份, 普源精電科技, 普源精電科技股份, 上海蔚來汽車, 北京華脈泰科, 廣醫(yī)東金灣高景太陽(yáng)能科技, 深圳匯佳成電子, 深圳市化訊半導(dǎo)體材料, 珠海珍迎機(jī)電, 合肥鼎材科技, 山東金晶節(jié)能玻璃, 江蘇云意電氣股份, 廣東風(fēng)華技股份, 浙江中能合控股集團(tuán),固安維信諾,淮安天合光能,浙江老鷹半導(dǎo)體, 四川信通電子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大學(xué), 汕頭大學(xué), 南方醫(yī)科大學(xué), 清華大學(xué), 北京大學(xué), 復(fù)旦大學(xué), 西北工業(yè)大學(xué), 南京醫(yī)科大學(xué), 香港中文大學(xué), 香港城市大學(xué), 蘇州大學(xué), 深圳職業(yè)技術(shù)學(xué)院, 南京大學(xué)合肥國(guó)家試驗(yàn)室, 上海交通大學(xué)醫(yī)學(xué)院, 華南理工大學(xué),華東師范大學(xué),江南大學(xué),重慶26所, 深圳大學(xué), 南方科技大學(xué), 深圳技術(shù)大學(xué), 理化技術(shù)研究所, 中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心, 廣東粵港澳大灣區(qū)黃埔材料研究院, 桂林電子科技大學(xué), 上海硅酸鹽研究所, 中國(guó)航天五院,中科合肥智慧農(nóng)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新研究院等。

 

 

 

 

 

 

 

 

半導(dǎo)體設(shè)備,快速退火爐,原子層沉積,鍵合機(jī),光刻機(jī)

  • 詳細(xì)介紹

  • 上海麥科威MKW-200是一個(gè)高價(jià)值的激光直寫光刻機(jī),面向大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)尋求擴(kuò)大他們的能力。

    它用亞微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蝕劑涂層表面大面積書寫。你可以寫任何東西,從光掩模到基礎(chǔ)科學(xué)或應(yīng)用科學(xué)的研究原型,集成相機(jī)可以用來調(diào)整現(xiàn)有的功能寫。

    我們對(duì)其進(jìn)行了優(yōu)化,以便于使用和簡(jiǎn)單維護(hù),利用現(xiàn)成的部件,而不犧牲書寫質(zhì)量或功能。

    直接激光書寫光刻

    直接激光光刻技術(shù)通過消除光掩模生產(chǎn)對(duì)外部供應(yīng)商的依賴,大大降低了微流體、微電子、微機(jī)械和材料科學(xué)研究等領(lǐng)域的成本和執(zhí)行時(shí)間。


    UV-Writer隨其控制軟件在PC上提供。它允許您從GDSII文件的單元格或直接從PNG圖像導(dǎo)入要寫入的設(shè)計(jì)。

    一切都是通過一個(gè)用戶友好的圖形界面來完成的,它允許您在執(zhí)行之前預(yù)覽要編寫的設(shè)計(jì)。

    除了對(duì)每個(gè)設(shè)計(jì)應(yīng)用旋轉(zhuǎn)、反射、反轉(zhuǎn)或比例調(diào)整等變換外,還可以在單個(gè)過程中組合多個(gè)設(shè)計(jì)。

    在確定了設(shè)計(jì)方案后,采用了所包含的工作臺(tái)控制模塊和共焦顯微鏡。

    使用它們,您可以設(shè)置基片上工藝的原點(diǎn)位置和感光表面上的焦平面。

    接下來執(zhí)行該過程并將設(shè)計(jì)寫在表面上。



    技術(shù)指標(biāo):

    XY工作臺(tái)

    典型寫入速度:100-120 mm/s

    面積:100x92 mm^2

    最小面積:沒有最小面積

    單向定位臺(tái)階:X=0.16µm,Y=1.00µm

    慢速X軸上的機(jī)械噪聲:<1µm

    快速Y軸上的機(jī)械噪聲:<1µm

    多層對(duì)準(zhǔn)精度:5-10µm(可選旋轉(zhuǎn)臺(tái),便于對(duì)準(zhǔn))

    實(shí)際最小特征尺寸:6-15µm,取決于特征(示例見下圖)


    軟件

    支持的格式:PNG、GDSII

    在軟件轉(zhuǎn)換:,旋轉(zhuǎn)、反射、反轉(zhuǎn)、重縮放、添加邊框

    -可以在一個(gè)進(jìn)程中編寫來自不同文件的多個(gè)設(shè)計(jì)

    -通過3點(diǎn)線性或4點(diǎn)雙線性聚焦測(cè)量進(jìn)行傾斜/翹曲基板補(bǔ)償

    -全床曲率補(bǔ)償?shù)木W(wǎng)格型標(biāo)定


    光學(xué)

    -激光波長(zhǎng):405nm(可選375nm)

    -激光聚焦、對(duì)準(zhǔn)和檢測(cè)用共焦顯微鏡

    -二次獨(dú)立黃色照明

    -激光光斑尺寸可以使用工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)顯微鏡物鏡改變


    精度:

    -精細(xì):0.8µm

    -介質(zhì):2µm

    -粗粒:5µm


    大面積包含目標(biāo)的有效書寫速度(單向書寫):

    -精細(xì):1.7 mm^2/min

    -中等:4.25 mm^2/min

    -粗糙度:10.6 mm^2/min

    在雙向?qū)懭肽J较滤俣燃颖丁?/p>




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