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ACP120 阿爾卡特半導體電子行業(yè)真空泵

參考價 19888
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 東莞市飛粵真空科技有限公司
  • 品牌 Adixen/阿爾卡特
  • 型號 ACP120
  • 產(chǎn)地 中國東莞
  • 廠商性質 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2025/4/28 9:57:59
  • 訪問次數(shù) 48

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


東莞市飛粵真空科技有限公司位于廣東制造名城-東莞市寮步鎮(zhèn),公司成立于2012年,是一家專業(yè)生產(chǎn)、銷售真空設備及進口真空泵維修、提供真空系統(tǒng)解決方案的企業(yè),為廣大用戶提供可靠的、安全易用的真空設備及優(yōu)質專業(yè)的服務。

公司擁有一支集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、售后為一體的強大隊伍,優(yōu)質的真空泵產(chǎn)品、專業(yè)的真空知識、在真空系統(tǒng)建造方面的豐富經(jīng)驗以及快速的服務,為客戶提供理想、完善的真空解決方案并贏得了高度贊譽
 公司主要經(jīng)營進口真空泵、進口真空泵配件、真空泵維修保養(yǎng),真空泵機組及真空系統(tǒng)設計安裝;主營:德國BUSCH普旭,Rietschle里其樂/偉力,Leybold萊寶,Becker貝克,英國BOC Edwards愛德華,日本ULVAC愛發(fā)科,Orion好利旺,TAIKO大晃,法國ALCATEL阿爾卡特,德國Pfeiffer普發(fā),韓國KODIVAC大亞、DOVAC斗一等國際;

飛粵真空定制的真空系統(tǒng)廣泛用于電子半導體、太陽能光伏、生物制藥、食品業(yè)、印刷業(yè)、汽車、自動化工程等行業(yè)。專業(yè)技術團隊可為不同需求客戶定制真空系統(tǒng)(廠務真空系統(tǒng)),設計、安裝、調試服務。






BUSCH普旭,Rietschle里其樂/偉力,Leybold萊寶,Becker貝克,英國BOC Edwards愛德華,日本ULVAC愛發(fā)科,Orion好利旺,TAIKO大晃,法國ALCATEL阿爾卡特,Pfeiffer普發(fā)等。

應用領域 化工,能源,電子/電池,汽車及零部件,電氣
法國ALCATEL阿爾卡特真空泵:半導體電子行業(yè)真空解決方案 

阿爾卡特半導體電子行業(yè)真空泵

法國ALCATEL(阿爾卡特)真空泵是半導體和電子行業(yè)的核心真空設備供應商之一。憑借超高真空(UHV)、潔凈無油、耐腐蝕等核心技術,ALCATEL真空泵廣泛應用于芯片制造、顯示面板、封裝、科研設備等領域,助力5nm/3nm制程、第三代半導體及Micro LED等前沿技術發(fā)展。  

ALCATEL真空泵在半導體電子行業(yè)的應用  
1. 芯片制造(前道工藝) 
? 光刻(Lithography) 
- EUV/DUV光刻機:提供超高真空(≤10?? mbar),減少光散射,確保曝光精度。  
- 推薦泵型:渦輪分子泵(HiPace系列)+干式螺桿泵組合。  

? 刻蝕(Etching)
- 等離子刻蝕(Dry Etching):穩(wěn)定維持低氣壓(10?2~10?3 mbar),兼容Cl?、CF?等腐蝕性氣體。  
- 推薦泵型:耐腐蝕干式泵(A4系列)。  

? 薄膜沉積(CVD/PVD/ALD) 
- CVD(化學氣相沉積):SiO?、Si?N?等薄膜生長,需中高真空環(huán)境。  
-PVD(物理氣相沉積):金屬濺射鍍膜(Al、Cu),依賴超高真空。  
- ALD(原子層沉積):納米級薄膜沉積,要求快速抽氣與精準壓力控制。  
- 推薦泵型**:渦輪分子泵+羅茨泵(增壓)+干式前級泵。  

? 離子注入(Ion Implantation)
- 高真空環(huán)境(10?? mbar)確保離子束精準摻雜,提升芯片性能。  
- 推薦泵型:渦輪分子泵+低溫泵(純度)。  


2. 封裝與測試(后道工藝)
? 真空封裝 
- MEMS傳感器、功率器件(IGBT):惰性氣體或真空封裝,防止氧化。  
- 推薦泵型:無油干式泵(避免碳氫污染)。  

? 氦質譜檢漏(Leak Testing)  
- 檢測芯片封裝氣密性,確保產(chǎn)品可靠性。  
- 推薦泵型:渦輪分子泵+隔膜泵(高靈敏度)。  


3. 平板顯示(LCD/OLED)制造 
? 顯示面板鍍膜  
- ITO導電層、OLED有機材料蒸鍍:要求高均勻性、無顆粒污染。  
- 推薦泵型:大抽速渦輪分子泵(如HiPace 3000)。  

? OLED真空封裝
- 超高真空(10?? mbar)隔絕水氧,延長屏幕壽命。  
- 推薦泵型:低溫泵(極低水汽殘留)。  



ALCATEL真空泵的核心技術優(yōu)勢 
? 超高真空(UHV)性能:支持10?? mbar真空,滿足EUV光刻等需求。  
? 100無油設計:干式泵、磁懸浮渦輪泵杜絕碳氫污染,符合SEMI潔凈標準。  

? 耐腐蝕處理:特殊涂層(如Al?O?)應對WF?、HCl等蝕刻氣體。  
? 智能控制:集成IoT傳感器,實時監(jiān)控壓力、溫度,提升工藝穩(wěn)定性。  


為什么半導體選擇ALCATEL真空泵? 
?? ASML(光刻機)、應用材料(AMAT)、Lam Research(刻蝕設備)等廠商長期合作。  
?? 適配3nm/2nm制程、SiC/GaN第三代半導體等未來技術需求。  
?? 普發(fā)真空(Pfeiffer Vacuum)服務網(wǎng)絡,提供快速技術支持與定制化方案。  

ALCATEL真空泵——為半導體創(chuàng)新提供純凈、穩(wěn)定、高效的真空環(huán)境!  阿爾卡特半導體電子行業(yè)真空泵




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