ACP120 阿爾卡特半導體電子行業(yè)真空泵
參考價 | ¥ 19888 |
訂貨量 | ≥1臺 |
- 公司名稱 東莞市飛粵真空科技有限公司
- 品牌 Adixen/阿爾卡特
- 型號 ACP120
- 產(chǎn)地 中國東莞
- 廠商性質 經(jīng)銷商
- 更新時間 2025/4/28 9:57:59
- 訪問次數(shù) 48
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BUSCH普旭,Rietschle里其樂/偉力,Leybold萊寶,Becker貝克,英國BOC Edwards愛德華,日本ULVAC愛發(fā)科,Orion好利旺,TAIKO大晃,法國ALCATEL阿爾卡特,Pfeiffer普發(fā)等。
應用領域 | 化工,能源,電子/電池,汽車及零部件,電氣 |
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阿爾卡特半導體電子行業(yè)真空泵
法國ALCATEL(阿爾卡特)真空泵是半導體和電子行業(yè)的核心真空設備供應商之一。憑借超高真空(UHV)、潔凈無油、耐腐蝕等核心技術,ALCATEL真空泵廣泛應用于芯片制造、顯示面板、封裝、科研設備等領域,助力5nm/3nm制程、第三代半導體及Micro LED等前沿技術發(fā)展。
ALCATEL真空泵在半導體電子行業(yè)的應用
1. 芯片制造(前道工藝)
? 光刻(Lithography)
- EUV/DUV光刻機:提供超高真空(≤10?? mbar),減少光散射,確保曝光精度。
- 推薦泵型:渦輪分子泵(HiPace系列)+干式螺桿泵組合。
? 刻蝕(Etching)
- 等離子刻蝕(Dry Etching):穩(wěn)定維持低氣壓(10?2~10?3 mbar),兼容Cl?、CF?等腐蝕性氣體。
- 推薦泵型:耐腐蝕干式泵(A4系列)。
? 薄膜沉積(CVD/PVD/ALD)
- CVD(化學氣相沉積):SiO?、Si?N?等薄膜生長,需中高真空環(huán)境。
-PVD(物理氣相沉積):金屬濺射鍍膜(Al、Cu),依賴超高真空。
- ALD(原子層沉積):納米級薄膜沉積,要求快速抽氣與精準壓力控制。
- 推薦泵型**:渦輪分子泵+羅茨泵(增壓)+干式前級泵。
? 離子注入(Ion Implantation)
- 高真空環(huán)境(10?? mbar)確保離子束精準摻雜,提升芯片性能。
- 推薦泵型:渦輪分子泵+低溫泵(純度)。
2. 封裝與測試(后道工藝)
? 真空封裝
- MEMS傳感器、功率器件(IGBT):惰性氣體或真空封裝,防止氧化。
- 推薦泵型:無油干式泵(避免碳氫污染)。
? 氦質譜檢漏(Leak Testing)
- 檢測芯片封裝氣密性,確保產(chǎn)品可靠性。
- 推薦泵型:渦輪分子泵+隔膜泵(高靈敏度)。
3. 平板顯示(LCD/OLED)制造
? 顯示面板鍍膜
- ITO導電層、OLED有機材料蒸鍍:要求高均勻性、無顆粒污染。
- 推薦泵型:大抽速渦輪分子泵(如HiPace 3000)。
? OLED真空封裝
- 超高真空(10?? mbar)隔絕水氧,延長屏幕壽命。
- 推薦泵型:低溫泵(極低水汽殘留)。
ALCATEL真空泵的核心技術優(yōu)勢
? 超高真空(UHV)性能:支持10?? mbar真空,滿足EUV光刻等需求。
? 100無油設計:干式泵、磁懸浮渦輪泵杜絕碳氫污染,符合SEMI潔凈標準。
? 耐腐蝕處理:特殊涂層(如Al?O?)應對WF?、HCl等蝕刻氣體。
? 智能控制:集成IoT傳感器,實時監(jiān)控壓力、溫度,提升工藝穩(wěn)定性。
為什么半導體選擇ALCATEL真空泵?
?? ASML(光刻機)、應用材料(AMAT)、Lam Research(刻蝕設備)等廠商長期合作。
?? 適配3nm/2nm制程、SiC/GaN第三代半導體等未來技術需求。
?? 普發(fā)真空(Pfeiffer Vacuum)服務網(wǎng)絡,提供快速技術支持與定制化方案。
ALCATEL真空泵——為半導體創(chuàng)新提供純凈、穩(wěn)定、高效的真空環(huán)境! 阿爾卡特半導體電子行業(yè)真空泵