EKC槽式清洗機(jī)是一種廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、醫(yī)療器械清洗等領(lǐng)域的高效自動(dòng)化設(shè)備，專注于通過(guò)濕法工藝實(shí)現(xiàn)高精度、高潔凈度的清洗需求。以下是其詳細(xì)產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

一、產(chǎn)品概述

一款基于濕法化學(xué)原理設(shè)計(jì)的自動(dòng)化清洗設(shè)備，采用多槽式結(jié)構(gòu)，結(jié)合化學(xué)溶液浸泡、超聲波輔助、機(jī)械拋動(dòng)等多種技術(shù)，能夠有效去除工件表面的光刻膠、氧化物、金屬離子、顆粒污染物及有機(jī)殘留物。其模塊化設(shè)計(jì)和智能化控制系統(tǒng)，可適應(yīng)不同工藝需求，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體晶圓制造、醫(yī)療器械處理、光學(xué)元件加工等領(lǐng)域，尤其適合對(duì)潔凈度要求的場(chǎng)景。

二、核心功能與技術(shù)特點(diǎn)

多槽協(xié)同清洗系統(tǒng)

配備多個(gè)獨(dú)立清洗槽（如預(yù)洗槽、酸洗槽、中和槽、漂洗槽等），每個(gè)槽體針對(duì)特定污染物設(shè)計(jì)專用清洗液，實(shí)現(xiàn)分步處理。

支持SC-1、SC-2、SPM等標(biāo)準(zhǔn)RCA清洗工藝，或定制化化學(xué)配方，確保污染物清除。

高效清洗技術(shù)

超聲波輔助：可選配高頻超聲波裝置，通過(guò)空化效應(yīng)增強(qiáng)清洗液滲透能力，有效剝離頑固污漬。

機(jī)械拋動(dòng)：模擬手工搓洗動(dòng)作，加速化學(xué)反應(yīng)與污染物脫落，提升清洗均勻性。

液體循環(huán)與攪拌：內(nèi)置循環(huán)泵和噴淋系統(tǒng)，保持清洗液均勻分布，避免局部濃度或溫度差異。

精準(zhǔn)控制與自動(dòng)化

PLC+工業(yè)電腦控制：支持參數(shù)化設(shè)定（時(shí)間、溫度、流速等），實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)運(yùn)行，減少人為干預(yù)。

溫度校準(zhǔn)與監(jiān)測(cè)：加熱材料無(wú)污染，配合實(shí)時(shí)溫度傳感器，確保工藝穩(wěn)定性。

數(shù)據(jù)追溯與分析：內(nèi)置生產(chǎn)數(shù)據(jù)記錄功能，支持MES接口，可生成清洗報(bào)告并實(shí)現(xiàn)工藝優(yōu)化。

安全與環(huán)保設(shè)計(jì)

安全防護(hù)：配備漏電保護(hù)、過(guò)載保護(hù)、緊急制動(dòng)按鈕，防止操作風(fēng)險(xiǎn)。

化學(xué)液管理：自動(dòng)補(bǔ)液、換液系統(tǒng)減少耗材浪費(fèi)，支持清洗液循環(huán)利用，降低排放。

密封與潔凈環(huán)境：槽體采用耐腐蝕材料（如不銹鋼、PFA），雙層視窗設(shè)計(jì)防止污染，正壓過(guò)濾系統(tǒng)避免外界顆粒侵入。

靈活配置與擴(kuò)展性

模塊化設(shè)計(jì)：可根據(jù)需求選配超聲波頻率、IPA干燥、Spin Dry等功能模塊。

多批次處理：支持多工位并發(fā)清洗，提升產(chǎn)能，適用于大批量生產(chǎn)。

兼容性強(qiáng)：適配不同尺寸晶圓（如6英寸、8英寸、12英寸）、陶瓷盤、石英基片等工件。

三、優(yōu)勢(shì)總結(jié)

高潔凈度：多槽分步清洗+超聲波輔助，確保表面無(wú)殘留。

高效穩(wěn)定：自動(dòng)化流程減少人工誤差，支持連續(xù)生產(chǎn)。

節(jié)能環(huán)保：清洗液循環(huán)利用，能耗低于傳統(tǒng)設(shè)備30%。

安全可靠：多重防護(hù)與故障自檢，降低操作風(fēng)險(xiǎn)。

定制化服務(wù)：可根據(jù)工藝需求調(diào)整槽體數(shù)量、化學(xué)配方及功能模塊。

EKC槽式清洗機(jī)憑借其的濕法清洗技術(shù)、智能化控制和模塊化設(shè)計(jì)，成為精密制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備，助力客戶提升產(chǎn)品質(zhì)量與生產(chǎn)效率。