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供求商機(jī)

EMS300R T-大樣本離子濺射鍍膜儀

  • 發(fā)布日期:
  • 有效日期:
  • 所 在 地:
  • 產(chǎn)  地:
  • 已獲點(diǎn)擊:

  • 2025年3月11日
  • 2025年9月11日
  • 北京北京市
  • 504次

【產(chǎn)品簡介】

大樣本鍍膜儀器


【詳細(xì)說明】

EMS300R T大樣品離子濺射鍍膜儀Large Chamber Sputter Coaters  
 
適合SEM(掃描電鏡)、FE-SEM(場發(fā)射掃描電鏡)、TEM(透射電鏡)。
EMS300R T 與EMS150R T相似,明顯區(qū)別是EMS300R T腔室足夠大,達(dá)到203mm,采用旋轉(zhuǎn)真空泵抽真空;此外,它配備三個獨(dú)立的濺射頭,確保靶材粒子在大樣本上的沉積效果。適合濺射不易氧化的貴金屬如金、金/鈀、鉑等。(注意:既能濺射不易氧化金屬,又能濺射易氧化金屬,另見EMS300T T) 。

特征參數(shù)
1、 可以進(jìn)行超大樣本(直徑至203mm)的金屬鍍膜
2、 三個濺射頭確保濺射沉積質(zhì)量
3、 單靶材選擇功能,可以進(jìn)行小樣本鍍膜
4、 多種金屬靶材比如金、金/鈀、鉑等可選
5、 選擇裝配膜厚監(jiān)測儀可以精確控制膜厚
6、 全自動觸摸屏控制,快速數(shù)字輸入,操作簡便
7、 可以儲存不同用戶的程序
8、 能夠記錄100個鍍膜細(xì)節(jié)
9、 真空自動控制,且具有真空保持功能
10、 落入式樣品臺拆裝方便(標(biāo)配是旋轉(zhuǎn)樣品臺)
11、 zui長60分鐘不間斷鍍膜能力
12、 符合人體工程學(xué)的整體注塑機(jī)身
13、 電氣符合CE要求
14、 三年質(zhì)保
 
樣品臺
EMS300R T有多種型號的樣品臺可以選擇,用于滿足目前大部分需求。落入式設(shè)計(jì)使得不同型號的樣品臺之間更換簡便,樣品臺除了行星臺外其高度均可調(diào),旋轉(zhuǎn)速度在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)可調(diào)。
 
  • 扁平樣品臺,用于晶圓的鍍膜(152mm-203mm),標(biāo)配
  • 旋轉(zhuǎn)樣品臺,50mm,不能傾斜
  • 旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺,50mm,高度可調(diào)(靶材與樣本之間的距離在30-80mm之間可調(diào)),傾斜角度在0-30度之間
  • 用于撥片的旋轉(zhuǎn)臺

加高腔室:需要時(shí)可以得到(付費(fèi))

儀器參數(shù):

儀器外形尺寸
585mm W x 470mm D x 410mm H (total height with coating head open: 650mm)
重量
36.4kg
包裝尺寸
725mm W x 660mm D x 680mm H (44.8kg)
工作腔室
高硼硅玻璃283mm ID x 127mm H
安全保護(hù)
整體PET套筒
顯示
145mm x 320mm x 240mm TFT彩顯
使用者界面
直觀的圖形界面,觸摸鍵。記憶功能:維護(hù)提醒及zui后100個鍍膜方案日志記錄
濺射靶材
標(biāo)配三個57 mm Ø x 0.1 mm金靶 (SC502-314A)
 
真空
旋轉(zhuǎn)真空泵
50L/m two-stage rotary pump with oil mist filter. Order separay, 91005.
真空監(jiān)測
皮拉尼測量
極限真空度
潔凈系統(tǒng)可達(dá) 2x10-2 mbar,充氮?dú)?/div>
樣品臺
標(biāo)配晶圓樣品臺,152mm-203mm,旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)。
 
濺射
根據(jù)鍍膜厚度或內(nèi)置的計(jì)時(shí)器,濺射電流范圍在0-80mA ,zui長濺射時(shí)間不超過60分鐘
 
其它重要信息
需要?dú)怏w
氬氣 99.999%,氮?dú)饪蛇x(排氣時(shí)需要)
電源
90-250V 50/60Hz 1,400VA including RV3 rotary pump power. (注意電壓的選擇)
電氣標(biāo)準(zhǔn)
符合電氣CE認(rèn)證要求
 
訂購信息:
貨號
產(chǎn)品
規(guī)格
EMS300R T
EMS300R T 大樣品離子濺射鍍膜儀Large-Chamber-Rotary-Pumped Sputter Coater, fitted with three sputtering heads to ensure even metaldeposition. Include three 57mm Ø x 0.3mm gold (Au) sputter targets. A flat rotation stage for 8”/203 mm/and 6”/152 mm wafers is fitted as standard
EACH
91005
愛德華旋轉(zhuǎn)真空泵(單獨(dú)購買)Edwards RV5 90L/s two-stage rotary pump, with vacuum hose, coupling kit and oil mist filter
EACH
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