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MR Hei-End-磁力攪拌器MR Hei-End

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貨物所在地：天津天津市

所在地：德國

更新時間：2025-02-06 21:00:05

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藥典分析儀器

原子吸收

分析儀器附件: 溴化鉀碎晶紫外比色皿紅外附件

光學(xué)元件

光學(xué)平臺及光具座系列: 精密光學(xué)平臺

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產(chǎn)品簡介詳細(xì)介紹

用來混合低粘度的液體，在化學(xué)、制藥、石化、化妝品、生物技術(shù)、醫(yī)藥工廠以及大學(xué)的研究和生產(chǎn)等各個行業(yè)中均有應(yīng)用

主要特點

800W的加熱功率，加熱速度快
加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅(qū)動攪拌子輕而易舉
加熱盤材料為帶陶瓷涂層的硅鋁合金，優(yōu)秀的傳熱能力以及防刮花防腐蝕性能
延長操作時間, 亦只有極微熱量傳送至加熱盤
Heidolph儀器已通過DIN ISO 9001:2000認(rèn)證

技術(shù)參數(shù)

800 加熱功率（600 W 于 115/100 V）
• 加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
- 優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能
- 優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能
• 加熱盤直徑: 145 mm
• 通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制線路和加熱盤切
斷功能
• 預(yù)設(shè)溫差△T, 當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)到預(yù)設(shè)定的溫度時，獨立
線路開關(guān)，自動停止加熱
• *避免無心的溫度設(shè)定
• 速度范圍: 30 - 1,400 rpm
• 出眾的溫度控制精度: ??1 %
• 數(shù)字顯示速度和溫度（包括設(shè)定值和實際值）
• 加熱盤溫度范圍: 20 - 3 00 °C
• 介質(zhì)溫度范圍:zui高 250 ° C
• 精確溫度設(shè)定： ± 1 K:
• 當(dāng)停止加熱時, 加熱盤溫度仍高到50°C, 顯示屏上顯示加熱盤的殘留熱量
• 照明開關(guān), 轉(zhuǎn)換實際加熱條件
• 三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命
• 電子轉(zhuǎn)速限制, 保護發(fā)動機受損
• 加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅(qū)動攪拌子輕而易舉
• 優(yōu)秀的攪拌性能,處理量zui大達(dá) 2 0 升（ H 2O）