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　　1、發(fā)射光譜測量

　　發(fā)射光譜測量可以用不同的實驗布局和波長范圍來實現(xiàn)，還要用到余弦校正器或積分球。發(fā)射光譜測量可以在紫外/可見和可見/近紅外波長范圍內(nèi)測量。

　　對于發(fā)射光譜的測量，光譜儀可以配置成波長范圍從200-400nm或350-1100nm，或組合起來實現(xiàn)紫外/可見200-1100nm。

　　為了使實驗布局更靈活，用可見/近紅外定標(biāo)光源（LS-1-CAL）或紫外/可見/近紅外定標(biāo)光源（DH2000-CAL）可以在用戶現(xiàn)場進(jìn)行定標(biāo)。功能強(qiáng)大的廣州標(biāo)旗軟件可以完成定標(biāo)并載入輻射定標(biāo)數(shù)據(jù)。

　　2、LED測量

　　zui簡單而且迅速地測量LED的整個光通量的方法就是使用一個積分球，并把它連接到一個美國海洋光學(xué)公司的光譜儀上。該系統(tǒng)可以用鹵素?zé)暨M(jìn)行定標(biāo)（LS-1-CAL-INT），然后用廣州標(biāo)旗軟件從測量到的光譜分布計算出相關(guān)參數(shù)，并實現(xiàn)輻射量的測量。所測光源的光譜發(fā)光強(qiáng)度還可以用μW/cm2/nm來計算、顯示并存儲。另外的窗口還可以顯示大約10個參數(shù)：輻射量μW/cm2, μJ/cm2, μW或μJ；光通量lux或lumen，色軸X, Y, Z, x, y, z, u, v和色溫。

　　3、薄膜厚度測量

　　光學(xué)的膜厚測量系統(tǒng)基于白光干涉測量原理，可以測量的膜層厚度10nm-50μm，分辨率為1nm。薄膜測量在半導(dǎo)體晶片生長過程中經(jīng)常被用到，因為等離子體刻蝕和淀積過程需要監(jiān)控；其它應(yīng)用如在金屬和玻璃材料基底上鍍透明光學(xué)膜層也需要測量膜層厚度。配套的廣州標(biāo)旗應(yīng)用軟件包括豐富的各種常用材料和膜層的n值和k值，可以實現(xiàn)膜層厚度的在線監(jiān)測，并可以輸出到Excel文件進(jìn)行過程控制。

　　由于微型光纖光譜儀的體積小，所以適合于便攜，手持，現(xiàn)場，在線，原位，活體，非破壞性應(yīng)用場合。由于光纖的使用，所以適合在有害環(huán)境下(包括化學(xué)，生物，放射性)進(jìn)行遠(yuǎn)程測量。由于微型光譜儀內(nèi)無移動部件，可靠性高，因此，適合于工作在環(huán)境惡劣的工業(yè)現(xiàn)場。由于采用探測器陳列，可一次獲得全光譜，測試速度快，因此適合需要高速測量的應(yīng)用，例如工業(yè)在線檢測，化學(xué)反應(yīng)動力學(xué)監(jiān)測。