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OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內移動(靠步進電機控制)的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設備zui高工作溫度為1200℃。
設備特點:坩堝通過一步進電機控制爐管,按照設定程序移動,同時坩堝后端安裝一熱電偶(隨坩堝儀器移動),可實時監(jiān)測樣品的溫度,意味著可通過移動坩堝的位置,在爐體中準確找到實驗所需要的溫度,使得實驗準確度更高,重復性更強。此款設備可用于多種實驗,比如HPCVD(hybrid physical chemical deposition),快速熱蒸發(fā),也可用于水平布里奇曼(Bridgman)法來長晶體。
技術參數
高溫爐部分 |
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溫度控制系統 |
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真空密封 |
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坩堝移動機構&PLC控制 |
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zui大加熱速率和冷卻速率 | 可通過移動樣品到已預加熱的爐體中來得到zui大的加熱速率,也可將樣品迅速移除高溫的爐體,來得到zui大的降溫速率
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可選配件 |
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尺寸 | | |||
質保 | 一年質保期,終生維護(不含加熱元件、爐管和密封圈) | |||
質量認證 |
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注意事項 |
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應用 |
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