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除了對20-30mm高度的金屬試樣作分析鑒定外，由于符合人的日常習(xí)慣，因此更廣泛的應(yīng)用于透明，半透明或不透明物質(zhì)。大于3 微米小于20微米觀察目標(biāo)，比如金屬陶瓷、電子芯片、印刷電路、LCD基板、薄膜、纖維、顆粒狀物體、鍍層等材料表面的結(jié)構(gòu)、痕跡，都能有很好的成像效果。
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
- 鏡筒：T三目，30度傾斜
- 目鏡：WF10XΦ18mm
- 長工作距離平場物鏡：PL10X，PLL 20X，PLL 40X（S）， PL100X（S）oil
- 轉(zhuǎn)換器：四孔
- 總放大倍數(shù)：100X-1000X
- 載物臺：尺寸210mm×140mm，移動范圍 75mmX50mm
- 聚光鏡：可調(diào)式阿貝聚光鏡NA1.25，孔徑光闌，濾色片座
- 調(diào)焦： 粗微動同軸，升降范圍25mm，微動格值0.002mm，帶鎖緊和限位裝置
- 光源：透反射照明鹵素?zé)?V20W，亮度可調(diào)
- 正交偏光裝置