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多靶磁控濺射鍍膜機(jī) 型號(hào):ZH5498
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訪問(wèn)次數(shù):1119更新時(shí)間:2024-11-23 07:50:48
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產(chǎn)品介紹
多靶磁控濺射鍍膜機(jī) 型號(hào):ZH5498 | 貨號(hào):ZH5498 |
產(chǎn)品簡(jiǎn)介 該鍍膜機(jī)主燒結(jié)車(chē)掃描測(cè)溫云臺(tái)于科研實(shí)驗(yàn),可制備納米和微米的單層及多層工能膜-種硬質(zhì)膜,光學(xué)膜,金屬膜,鐵磁薄膜,半導(dǎo)體膜,介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。 該鍍膜機(jī)為前開(kāi)門(mén)式設(shè)計(jì),功能強(qiáng),鍍膜穩(wěn)定,重復(fù)性好,操作簡(jiǎn)便。真空室材料均采用優(yōu)良材SUS304不繡鋼材料制造,規(guī)范,,了材料的成膜度。 采用分子泵+直聯(lián)機(jī)械泵機(jī)組,具有抽速快,油,操作方便快捷,易于維護(hù)的特點(diǎn)。 1 鍍膜方式:可實(shí)現(xiàn)多靶共濺模式 2 磁控靶:圓柱/平面靶; 3 進(jìn)氣系統(tǒng):三路流量計(jì); 4 鍍膜室體積:500×500×600mm3 5 限真空度:6.7×10-5Pa; 恢復(fù)真空度:從大氣抽到6.7×10-4Pa;﹝40分鐘﹞ 6 真空抽氣系統(tǒng):機(jī)械泵與分子泵組成; 7 真空測(cè)量系統(tǒng):數(shù)表面粗糙度樣板顯復(fù)合真空計(jì); 8 工作電源:真流電源500W;射頻電源500W﹝13.56MHz﹞;加熱控溫電源; 9 工作烘烤溫度:室溫~800℃可控可調(diào)﹝PID控溫﹞; 10 選配件:石英晶振測(cè)厚儀,冷卻水機(jī)組等; 11 供電電源:三相AC380V,50Hz www.ghitest.com | ![]() |