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CID與ETD碎裂功能

    TriWave的雙碰撞室結(jié)構(gòu)可提供碰撞誘導解離(CID)和/或電子轉(zhuǎn)移解離(ETD)碎裂，并且同時得到高分辨率和精確質(zhì)量數(shù)，從而獲得更好的MS/MS檢測結(jié)果。ETD選件性價比高，可以實現(xiàn)*性能（碎裂效率）和靈活性，且易于和使用和維護。

    高解析度四極桿包括4KDa、8KDa或32KDa質(zhì)量數(shù)范圍，適用于從小分子到大分子的MS/MS測定。  

多種實驗類型選擇

    沃特世的離子源結(jié)構(gòu)可與各種技術(shù)相結(jié)合：對于分離，可結(jié)合UPLC、nanoUPLC、HDX Automation、APGC和UPC2；對于電離，可結(jié)合ESI、APCI、APPI、ASAP、 DESI、DART和LDTD。它們可快速互換，在幾分鐘內(nèi)即可使用。

    對于直接進樣分析方法，可升級至HDMS功能和T-Wave 離子淌度技術(shù)，后者可提供*的電離后選擇性與特異性。在與高性能可以與大氣壓離子源快速切換MALDI選件結(jié)合時，這一點具有非常明顯的優(yōu)勢。

     升級至三維的數(shù)據(jù)分辨率！

    保留。遷移。質(zhì)量。某些情況下，色譜和質(zhì)量數(shù)分辨率還不能滿足要求。可簡單、快速、*地升級至SYNAPT 高清晰質(zhì)譜功能和高效T-Wave離子淌度技術(shù)，從而可在分子大小和形狀的基礎上獲得另一個分離維度。利用分子碰撞截面特性這一項*的功能，可以提供zui高水平的選擇性、特異性、靈敏度和結(jié)構(gòu)分析。其優(yōu)點還包括同分異構(gòu)體分離、消除干擾、生成更干凈的譜圖，以及更準確地識別化合物ID。