H20-UVL真空紫外光譜儀產(chǎn)品簡介

H20-UVL真空紫外單色儀在真空環(huán)境下覆蓋100-400nm（3-12.4eV），在大氣環(huán)境下覆蓋190nm-400nm（3-6.5eV）。結(jié)合真空紫外光源和蝸輪驅(qū)動實(shí)現(xiàn)快速精確的光譜掃描，可作為一個優(yōu)異的真空紫外單色光源使用。在分辨率要求不高的情況下，配備單通道探測器，H20-UVL還是一個高性價比的真空紫外光譜分析系統(tǒng)。
 
H20-UVL真空紫外光譜儀技術(shù)特點(diǎn)
    單片式光學(xué)結(jié)構(gòu)確保光通量zui大化，高光學(xué)穩(wěn)定性
    配備4型消像差單色儀光柵，全光譜范圍線色散均勻
    全自動蝸輪高速驅(qū)動光柵
    光柵表面鍍氟化鎂膜，優(yōu)化120nm以上波長的輸出

典型應(yīng)用
    透射反射測量
    熒光激發(fā)
    可調(diào)濾波/光源
    激光諧波濾波
 
技術(shù)指標(biāo)

 
附件
    前鏡腔，配備兩塊超環(huán)面鏡，實(shí)現(xiàn)光源和單色儀之間的光學(xué)匹配
    后鏡腔，配備兩塊超環(huán)面鏡，實(shí)現(xiàn)單色儀和樣品室之間的光學(xué)匹配
    樣品室，可搭載4塊直徑不大于25mm的樣品
    偏振插片
    制冷機(jī)，zui低至4K
    真空泵