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等離子去膠機(jī) 晶圓級(jí)封裝前處理清洗機(jī)
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更新時(shí)間:2025-04-23 11:33:49

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晶圓級(jí)封裝等離子清洗機(jī)去除表面的無機(jī)物,還原氧化層,增加銅表面的粗糙度,提高產(chǎn)品的可靠性。
等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體、電子材料干式清洗中的應(yīng)用如硅膠片的光刻膠剝離、除去有機(jī)膜、界面活性化、微細(xì)研磨、除去碳化膜等領(lǐng)域。

晶圓等離子清洗機(jī)(等離子灰化/去光刻膠/聚合物剝離/預(yù)處理/介電質(zhì)刻蝕/晶圓凸點(diǎn)/有機(jī)污染去除/晶圓減薄)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面進(jìn)行激活、蝕刻、除污等工藝處理,以及對(duì)材料的摩擦因數(shù)、粘合和親水等各種表面性能進(jìn)行改良的目的。

等離子表面處理設(shè)備用于LCD,LED,IC,PCB,SMT,BGA,引線框架,平板顯示器的清洗和蝕刻。經(jīng)等離子處理設(shè)備清洗過的IC可顯著提高焊線強(qiáng)度,減少電路故障的可能性。殘余的感光阻劑、樹脂,溶液殘?jiān)捌渌袡C(jī)污染物暴露于等離子體區(qū),短時(shí)間內(nèi)就能去除。PCB制造商用等離子蝕刻設(shè)備進(jìn)行去污和蝕刻來帶走鉆孔中的絕緣物。

晶圓、硅片、芯片、半導(dǎo)體材料等離子清洗機(jī)高能量可以分解材料表面的化學(xué)物質(zhì)或有機(jī)污染物,有效去除附著的雜質(zhì),從而使材料表面達(dá)到后續(xù)涂覆過程所需的條件。

晶圓級(jí)封裝等離子清洗機(jī)去除表面的無機(jī)物,還原氧化層,增加銅表面的粗糙度,提高產(chǎn)品的可靠性。

等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體、電子材料干式清洗中的應(yīng)用如硅膠片的光刻膠剝離、除去有機(jī)膜、界面活性化、微細(xì)研磨、除去碳化膜等領(lǐng)域。

等離子清洗去膠機(jī)是無任何環(huán)境污染的新型清洗方式,清洗后無廢液,特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型均可處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物及粉體或時(shí)顆粒狀材料的等離子表面改性處理,包括:等離子清洗、活化、刻蝕、沉積、聚合、接枝、污染物去除、表面化學(xué)改性、聚合物植、表面涂覆等。等離子清洗機(jī)為所處理的材料表面帶來潔凈、提高濕潤(rùn)性轉(zhuǎn)變,表面性質(zhì)改變,提高結(jié)合力等處理效果。

半導(dǎo)體封裝等離子清洗機(jī) 清除微粒污染 氧化層 有機(jī)物 避免虛焊

等離子清洗去膠機(jī)器在半導(dǎo)體行業(yè)的廣泛應(yīng)用,可有效去除表面污染物和顆粒,有利于提高導(dǎo)線鍵的強(qiáng)度,減少芯片分層的發(fā)生,提高芯片本身的質(zhì)量和使用壽命,提高包裝產(chǎn)品的可靠性

專為半導(dǎo)體封裝和組裝 (ASPA)、晶圓級(jí)封裝 (WLP) 和微機(jī)電 (MEMS) 組裝的需求而設(shè)計(jì)等離子清洗機(jī)。通過使用合適的等離子處理技術(shù)可以改善或克服許多制造挑戰(zhàn),包括改善芯片附著、增加引線鍵合強(qiáng)度、消除倒裝芯片底部填充空隙以及減少封裝分層。

芯片貼裝 - 基板通過等離子清洗機(jī)表面活化提高芯片貼裝環(huán)氧樹脂的附著力,從而改善芯片和基板之間的粘合。更好的鍵合可改善散熱。

引線鍵合 - 在引線鍵合之前對(duì)焊盤采用等離子清洗機(jī)提高鍵合強(qiáng)度。

底部填充 - 底部填充工藝之前采用等離子清洗機(jī)表面處理來提高底部填充芯吸速度、增加圓角高度和均勻性、減少空洞并提高底部填充粘合力。

封裝和成型 - 等離子處理通過增加基材表面能來提高成型化合物的附著力,改進(jìn)的粘合增加了封裝的可靠性。

MEMS - 加速度計(jì)、翻滾傳感器和氣囊展開傳感器等 MEMS 器件在制造過程中采用等離子體清洗機(jī)處理提高器件產(chǎn)量和長(zhǎng)期可靠性



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