直流濺射等離子實(shí)驗(yàn)裝置 型號(hào)：YQ-DHPS-1 貨號(hào)：ZH5502 
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
  裝置包括可拆卸的濺射腔體、濺射靶臺(tái)、真空抽氣系統(tǒng)、測(cè)量系統(tǒng)、進(jìn)氣系統(tǒng)等部分組成。
  本實(shí)驗(yàn)采用同軸二濺射結(jié)構(gòu)，在真空室內(nèi)以沉積材料為陰，加工樣品為陽(yáng)，工作期間兩間加直流電壓引起放電，放電氣體中的離子被加速轟擊靶面，濺射粒子沉積在基片表面成膜。
  可以完成光學(xué)薄膜材料的制備及其光學(xué)特性的測(cè)量、金屬薄膜的制備等實(shí)驗(yàn)。通過(guò)這些實(shí)驗(yàn)可讓實(shí)驗(yàn)者理解直流濺射原理，掌握直流濺射薄膜材料的方法。 
主要特點(diǎn)： 
1 濺射靶臺(tái)和濺射靶距離可調(diào)節(jié)，研究在不同距離時(shí)對(duì)薄膜濺射的影響；
2 濺射基片可進(jìn)行加熱，加熱溫度可控，研究基片溫度對(duì)薄膜濺射的影響；
3 濺射氣壓、濺射氣源流量可調(diào)節(jié)，研究不同氣壓、氣源流量對(duì)薄膜濺射的影響；
4 反應(yīng)腔體采用石英玻璃管，可直觀地觀察到濺射現(xiàn)象；
5 工作氣體可調(diào)節(jié)換，并可多路氣體混合工作。 
主要參數(shù)及性能： 
1、濺射腔體外形尺寸：φ140mm×150mm；
2、濺射靶臺(tái)：φ70mm×20mm；
3、濺射靶臺(tái)和濺射靶可調(diào)距離：10~50mm；
4、基片加熱溫度可控范圍：室溫~80℃；
5、濺射氣壓可調(diào)范圍：10Pa~200Pa;
6、濺射電壓：0V~1000V連續(xù)可調(diào)；
7、濺射電流：0~200mA可測(cè)；
8、氣源流量可控范圍：6~60ml/min；25~250ml/min；
9、供電電源：AC220V，50HZ；
10、整機(jī)功率：1.5KW。