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氧化還原電位(Eh)作為介質(zhì)(包括土壤、水、培養(yǎng)基等)環(huán)境條件的一個(gè)綜合性指標(biāo),已沿用很久,它表征介質(zhì)氧化性或還原性的相對(duì)程度。長期以來氧化還原電位是采用鉑電直接測定法。即將鉑電和參比電直接插入介質(zhì)中來測定。
一、指標(biāo):
測量范圍: ±1999mv 0.0-100℃
解 析 度: 1mV 0.1℃
精 度 :1mV 0.1mV(200mV以內(nèi))
校正方式:一點(diǎn)或二點(diǎn)手動(dòng)校正(pH4.0、9.18)
溫度補(bǔ)償:0-50℃自動(dòng)溫度補(bǔ)償
輸入阻抗:1012Ω
適用環(huán)境:0-50℃ 85%RH
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