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技術文章
VCD高真空箱的主要技術指標
點擊次數：194 發(fā)布時間：2025-2-14
一、簡介：VCD高真空箱主要應用于航空、航天、軍事、電子、通訊、光電等科研及生產單位。集公司多年在真空設備成功經驗，通過不斷潛心研究，突破傳統(tǒng)技術創(chuàng)造性解決了精密高真空設備的控制難點，能精準控制133Pa以下的真空度。
二、主要技術指標：
規(guī)格型號： HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600
內箱尺寸(mm)： 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600
外形尺寸(mm)： 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650
真空度范圍： 100000Pa～1Pa
控制方式： 真空計顯示或PLC觸摸屏控制
結構： 一體式結構（內置真空泵）或分體式（外置真空泵）
內箱材質： SUS304#不銹鋼
外箱材質： SECC鋼板高級烤漆處理
使用電源： AC 單相 三線 220V 50HZ或AC 三相 五線 380V 50HZ
選加功能： 加熱功能（RT+10℃～200℃）
真空泵： 另購（可用戶自備）