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硅片燒結升降爐原理
閱讀：153 發(fā)布時間：2025-4-17邦世達硅片燒結升降爐的原理基于精準溫控、氣氛調控與機械升降的協(xié)同作用，專為硅片燒結工藝設計，實現(xiàn)穩(wěn)定的材料處理。
1. 溫控系統(tǒng)
采用PID智能溫控儀表，可預設多段升溫、恒溫、降溫程序，溫度控制精度達±1℃。通過硅碳棒或硅鉬棒加熱元件，配合雙層爐殼風冷系統(tǒng)及輕質保溫材料，確保爐內溫度均勻性，滿足硅片燒結對溫度穩(wěn)定性的嚴苛要求。
2. 爐體升降結構
電動環(huán)狀銷輪減速器驅動爐體沿內外軌道升降，裝卸料時爐體下降至低位，減少搬運震動對硅片的損傷；燒結時爐體上升至高溫區(qū)，實現(xiàn)密閉環(huán)境下的均勻加熱。
3. 氣氛控制
通過氣體流量計向爐內通入氮氣、氫氣等保護氣氛，防止硅片氧化。高精度熱電偶實時監(jiān)測爐內氣氛及溫度，確保燒結過程的氣體純度與溫度一致性。
4. 安全與自動化
爐門開啟時自動斷電，配備過流、限流、過熱保護功能，確保操作安全。支持程序化運行，用戶可一鍵啟動預設工藝，減少人工干預，提升生產效率。
邦世達升降爐通過模塊化設計，兼顧高溫穩(wěn)定性與操作便捷性，適用于半導體、電子陶瓷等領域的小批量生產與科研實驗。