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CMP后清洗機(jī)-單晶圓/掩膜版兆聲清洗
CMP后清洗機(jī)-單晶圓/掩膜版兆聲清洗：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕...

型號： SWC4000 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 11:22:27 對比

兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)晶圓清洗設(shè)備cmp后清洗機(jī)掩膜版清洗機(jī)
單晶圓/硅片/掩膜版清洗機(jī)
單晶圓/硅片/掩膜版清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。它可...

型號： SWC4000 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 11:20:03 對比

兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)晶圓清洗設(shè)備硅片清洗設(shè)備掩膜版清洗機(jī)
SWC4000 掩模版兆聲清洗機(jī)
SWC4000 掩模版兆聲清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 11:15:15 對比

兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)晶圓清洗設(shè)備硅片清洗設(shè)備半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備
兆聲清洗機(jī)
兆聲清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統(tǒng)配套機(jī)械手，也可以升級...

型號： SWC系列/LSC... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:40:56 對比

兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)兆聲無損清洗設(shè)備兆聲無損清洗機(jī)
硅片清洗機(jī)
硅片清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗...

型號： SWC系列/LSC... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:38:33 對比

硅片清洗機(jī)兆聲無損清洗機(jī)兆聲無損清洗設(shè)備兆聲無損硅片清洗單片晶圓清洗機(jī)
進(jìn)口晶圓清洗機(jī)
進(jìn)口晶圓清洗機(jī)：Nano-Master進(jìn)口兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、...

型號： SWC系列/LSC... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:36:24 對比

進(jìn)口晶圓清洗機(jī)兆聲無損清洗機(jī)兆聲無損清洗設(shè)備進(jìn)口掩模版清洗機(jī)兆聲無損硅片清洗
SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)
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型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:29:57 對比

兆聲無損清洗機(jī)進(jìn)口掩模板清洗機(jī)單片晶圓清洗機(jī)兆聲無損硅片清洗機(jī)兆聲無損清洗設(shè)備
SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī)
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型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:33:16 對比

進(jìn)口濕法刻蝕系統(tǒng)全自動(dòng)濕法刻蝕系統(tǒng)全自動(dòng)晶圓清洗機(jī)全自動(dòng)掩膜板清洗機(jī)全自動(dòng)硅片清洗機(jī)
SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)
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型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:31:00 對比

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SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)
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型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:28:30 對比

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SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)
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型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:26:01 對比

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