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更新時(shí)間：2024-08-02 10:39:34瀏覽次數(shù)：1191次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 化工儀器網(wǎng)| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 產(chǎn)品種類 | 超聲波 |
|---|---|---|---|
| 價(jià)格區(qū)間 | 5萬(wàn)-10萬(wàn) | 介質(zhì)分類 | 氣體&液體 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子/電池,制藥/生物制藥,電氣 |
CMP設(shè)備專用流量計(jì)UFM400系列超聲波流量計(jì)
一、化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）基本概念：
CMP，即化學(xué)機(jī)械拋光，是一種通過(guò)化學(xué)和機(jī)械相結(jié)合的方式對(duì)硅片表面進(jìn)行精確研磨和拋光的技術(shù)。正是這一技術(shù)的硬件基礎(chǔ)，它能夠?qū)崿F(xiàn)硅片表面的全局平坦化，為后續(xù)的工藝提供良好的基礎(chǔ)。CMP設(shè)備是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的關(guān)鍵工藝設(shè)備。
CMP設(shè)備專用流量計(jì)UFM400系列超聲波流量計(jì)
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化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）專用超聲波流量計(jì)
化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）專用超聲波流量計(jì)$r$nCMP，即化學(xué)機(jī)械拋光，請(qǐng)輸入賬號(hào)
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