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高壓放大器基于掃描式固體腔F-P干涉儀的設(shè)計(jì)與優(yōu)化中的應(yīng)用

時(shí)間:2021/8/24閱讀:285
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實(shí)驗(yàn)名稱:高壓放大器基于掃描式固體腔F-P干涉儀的設(shè)計(jì)與優(yōu)化中的應(yīng)用

實(shí)驗(yàn)?zāi)康模簝?yōu)化設(shè)計(jì)掃描式固體腔F-P干涉儀

實(shí)驗(yàn)設(shè)備:光源,準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng),待測(cè)電光晶體(包含驅(qū)動(dòng)),4f系統(tǒng)和CCD,信號(hào)源,ATA-2161高壓放大器,示波器。

實(shí)驗(yàn)內(nèi)容:為實(shí)現(xiàn)全天時(shí)邊界層內(nèi)大氣溫度絕對(duì)探測(cè),即精細(xì)獲取大氣Rayleigh散射譜形,借鑒F-P干涉濾波技術(shù)和晶體的電光特性,設(shè)計(jì)了一種掃描式固體腔F-P干涉儀,測(cè)試其濾波性能并進(jìn)行優(yōu)化。

實(shí)驗(yàn)過程:如圖是搭建的透射型馬赫曾德干涉儀光路,此光路用做全息圖的記錄,主要包括以下幾個(gè)部分:光源,準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng),待測(cè)電光晶體(包含驅(qū)動(dòng))、4f系統(tǒng)和CCD。

高壓放大器應(yīng)用 

測(cè)量晶體內(nèi)部均勻性和折射率調(diào)制度關(guān)系的系統(tǒng)圖

電光晶體高壓驅(qū)動(dòng),函數(shù)發(fā)生器,使其產(chǎn)生一個(gè)脈沖方波信號(hào),然后經(jīng)過ATA-2161高壓放大器使其放大,最終把放大后的信號(hào)加載到晶體上,完成晶體電光性能的測(cè)試。  

 

電光晶體高壓模塊標(biāo)定

實(shí)驗(yàn)結(jié)果:

1)不同電壓下CCD上記錄的全息圖

 

2)不同電壓場(chǎng)下,對(duì)應(yīng)晶體折射率的改變量

對(duì)圖相位圖中晶體相位的改變量進(jìn)行平均處理,得到不同電壓場(chǎng)下,對(duì)應(yīng)的晶體的相位改變量,再由公式計(jì)算得出,不同電壓場(chǎng)下,對(duì)應(yīng)晶體折射率的改變量。

 

相位調(diào)制和折射率調(diào)制度實(shí)測(cè)值與理論值的對(duì)比 


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