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測定三氯氫硅中痕量磷

閱讀:2868        發(fā)布時間:2011-5-12

 

TP8000型“高溫氫還原-火焰光度氣相色譜儀”簡介
(測定三氯氫硅中痕量磷儀器)
一、           前言
半導(dǎo)體硅材料中磷含量的高低,直接影響器件的電性能。隨著硅材料研究及生產(chǎn)的不斷提高,對于原材料三氯氫硅中磷的測試靈敏度、速度、準(zhǔn)確度提出更高要求。
三氯氫硅中雜質(zhì)磷的分析,傳統(tǒng)的方法為將雜質(zhì)磷轉(zhuǎn)變成磷鉬雜多酸,再還原成磷鉬藍(lán)進(jìn)行比色測定。在此基礎(chǔ)上后來有改進(jìn),諸如經(jīng)苯肟酮或硫氰化銨比色測定鉬,或利用化學(xué)光譜法測出鉬量進(jìn)而間接換算出磷含量;加大取樣量等。雖然在靈敏度上有一定提高,但都要經(jīng)過使磷形成磷鉬雜多酸這一過程。為要形成穩(wěn)定的絡(luò)合物來分離基本和消除雜質(zhì)干擾,化學(xué)分離手續(xù)相當(dāng)繁雜,分析時間長,而且,測定靈敏度也不能滿足生產(chǎn)上的要求。
為了提高三氯氫硅中雜質(zhì)磷分析靈敏度和速度,國內(nèi)外相關(guān)科研人員做了大量工作。例如,有專家采用氣相色譜法測定了三氯氫硅中以PCL3POCL3形式存在的磷含量。然而,三氯氫硅中雜質(zhì)磷還可能以其他形式存在(例如,PCL5PSCL3),因此,欲采用氣相色譜法測定總磷含量,首先要保證樣品中以各種形式存在的磷都能從分離柱中流出,這無疑是一項(xiàng)很艱巨的工作,至今尚未見到報(bào)道。又例如,有專家采用“ICPMS”法測定三氯氫硅中痕量雜質(zhì)磷,測試方法雖然簡捷,遺憾的是,測定靈敏度下限僅為0.3PPb,不能滿足多晶硅生產(chǎn)工藝對三氯氫硅中雜質(zhì)磷的分析要求(工藝要求三氯氫硅中雜質(zhì)磷含量應(yīng)小于0.1PPb)。
 
二、           測定三氯氫硅中痕量磷儀器“高溫氫還原—火焰光度氣相色譜儀”。
針對上述現(xiàn)狀,我公司專家級工程師經(jīng)過多年在硅行業(yè)的豐富經(jīng)驗(yàn),與大量的切合實(shí)戰(zhàn)分析,研制出測定三氯氫硅中痕量磷儀器“高溫氫還原—火焰光度氣相色譜儀”。進(jìn)幾年已在國內(nèi)硅行業(yè)多個生產(chǎn)廠家得到應(yīng)用,反應(yīng)*,與價(jià)格昂貴的“ICP-MS”法比較有廉價(jià)實(shí)用,快速測定,痕量(≤0.06PPb)分析,耗材低等特性。對于快速反應(yīng)指導(dǎo)三氯氫硅生產(chǎn)工藝,更加提純硅產(chǎn)品,為社會提供更的單晶硅產(chǎn)品,是我司特別推出此套分析儀器的宗旨,也是您可信賴的合作伙伴。
                     
TP8000分析儀總磷測定
三氯氫硅———————————→多晶硅————→單晶硅產(chǎn)品
 
三、           儀器的特點(diǎn)和指標(biāo)
1、 所測三氯氫硅中雜質(zhì)磷含量為總磷含量;
2、 三氯氫硅中雜質(zhì)磷含量測定下限為0.06PPb;
3、 測定手續(xù)簡便只需用注射針筒向儀器注入三氯氫硅即可;
4、 測定周期短,自注入三氯氫硅到測出磷化氫峰高(或面積)需時20分鐘;
5、 儀器結(jié)構(gòu)簡潔、直觀,便于使用和維修。  
 
儀器選購及售后服務(wù)
       在你購買儀器前協(xié)助你全面了解儀器的性能、特點(diǎn),儀器選型的全面咨詢服務(wù)。在您購買儀器后,我們可派專業(yè)技術(shù)人員前往您的單位進(jìn)行儀器的安裝、啟動、調(diào)試。定期舉辦培訓(xùn)班,長期供應(yīng)儀器的易損、易耗件。依國家行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),儀器實(shí)行三包,保質(zhì)期十二個月,終身維修,自接到用戶詢問后,24小時內(nèi)答復(fù),若需到現(xiàn)場,48小時內(nèi)到位,做好售后服務(wù)。

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