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在制造過程中，半導體表面用超純水清洗，用于去除殘余的酸離子，進而避免產(chǎn)生金屬腐蝕的現(xiàn)象，因此洗滌用水中的陰離子分析對于產(chǎn)品質(zhì)量控制至關重要。這需要在幾個PPt水平下進行陰離子檢測。下圖所示的是應用離子色譜儀對半導體洗滌用水中的微量無機離子的分析。

 

分析靈敏度進一步提高 
優(yōu)良的擴展性和節(jié)省空間的設計 
可對應抑制型/非抑制型檢測 
支持有效性