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詳細(xì)解析光柵傳感器的結(jié)構(gòu)及工作原理

2020-2-1  閱讀(1309)

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光柵式傳感器指采用光柵疊柵條紋原理測量位移的傳感器。光柵是在一塊長條形的光學(xué)玻璃上密集等間距平行的刻線,刻線密度為10~100線/毫米。由光柵形成的疊柵條紋具有光學(xué)放大作用和誤差平均效應(yīng),因而能提高測量精度。

 

光柵式傳感器(optical grating transducer)指采用光柵疊柵條紋原理測量位移的傳感器。光柵是在一塊長條形的光學(xué)玻璃上密集等間距平行的刻線,刻線密度為 10~100線/毫米。由光柵形成的疊柵條紋具有光學(xué)放大作用和誤差平均效應(yīng),因而能提高測量精度。傳感器由標(biāo)尺光柵、指示光柵、光路系統(tǒng)和測量系統(tǒng)四部分組成(見圖)。標(biāo)尺光柵相對于指示光柵移動時,便形成大致按正弦規(guī)律分布的明暗相間的疊柵條紋。這些條紋以光柵的相對運動速度移動,并直接照射到光電元件上,在它們的輸出端得到一串電脈沖,通過放大、整形、辨向和計數(shù)系統(tǒng)產(chǎn)生數(shù)字信號輸出,直接顯示被測的位移量。傳感器的光路形式有兩種:一種是透射式光柵,它的柵線刻在透明材料(如工業(yè)用白玻璃、光學(xué)玻璃等)上;另一種是反射式光柵,它的柵線刻在具有強反射的金屬(不銹鋼)或玻璃鍍金屬膜(鋁膜)上。這種傳感器的優(yōu)點是量程大和精度高。光柵式傳感器應(yīng)用在程控、數(shù)控機(jī)床和三坐標(biāo)測量機(jī)構(gòu)中,可測量靜、動態(tài)的直線位移和整圓角位移。在機(jī)械振動測量、變形測量等領(lǐng)域也有應(yīng)用。

 

光柵傳感器的結(jié)構(gòu)及工作原理

 

光柵傳感器的結(jié)構(gòu)均由光源、主光柵、指示光柵、通光孔、光電元件這幾個主要部分構(gòu)成。

 

1、光源:鎢絲燈泡,它有較小的功率,與光電元件組合使用時,轉(zhuǎn)換效率低,使用壽命短。半導(dǎo)體發(fā)光器件,如砷化鎵發(fā)光二極管,可以在 范圍內(nèi)工作,所發(fā)光的峰值波長為 ,與硅光敏三極管的峰值波長接近,因此,有很高的轉(zhuǎn)換效率,也有較快的響應(yīng)速度。

 

2、光柵付:由柵距相等的主光柵和指示光柵組成。主光柵和指示光柵相互重疊,但又不*重合。兩者柵線間會錯開一個很小的夾角 ,以便于得到莫爾條紋。一般主光柵是活動的,它可以單獨地移動,也可以隨被測物體而移動,其長度取決于測量范圍。指示光柵相對于光電器件而固定。

 

3、通光孔:通光孔是發(fā)光體與受光體的通路,一般為條形狀,其長度由受光體的排列長度決定,寬度由受光體的大小決定。它是帖在指示光柵板上的。

 

4、受光元件:受光元件是用來感知主光柵在移動時產(chǎn)生莫爾條紋的移動,從而測量位移量。在選擇光敏元件時,要考慮靈敏度、響應(yīng)時間、光譜特性、穩(wěn)定性、體積等因素。

 

光柵傳感器的結(jié)構(gòu)及工作原理

將主光柵與標(biāo)尺光柵重疊放置,兩者之間保持很小的間隙,并使兩塊光柵的刻線之間有一個微小的夾角θ,如圖所示。

 

當(dāng)有光源照射時,由于擋光效應(yīng)(對刻線密度≤50條/mm的光柵)或光的衍射作用(對刻線密度≥100條/mm的光柵),與光柵刻線大致垂直的方向上形成明暗相間的條紋。

 

在兩光柵的刻線重合處,光從縫隙透過,形成亮帶;在兩光柵刻線的錯開的地方,形成暗帶;這些明暗相間的條紋稱為莫爾條紋。

 

光柵傳感器的結(jié)構(gòu)及工作原理

莫爾條紋的間距與柵距W和兩光柵刻線的夾角θ(單位為rad)之間的關(guān)系為

 

光柵傳感器的結(jié)構(gòu)及工作原理

(K稱為放大倍數(shù))。

 

當(dāng)指示光柵不動,主光柵的刻線與指示光柵刻線之間始終保持夾角θ,而使主光柵沿刻線的垂直方向作相對移動時,莫爾條紋將沿光柵刻線方向移動;光柵反向移動,莫爾條紋也反向移動。

 

主光柵每移動一個柵距W,莫爾條紋也相應(yīng)移動一個間距S。因此通過測量莫爾條紋的移動,就能測量光柵移動的大小和方向,這要比直接對光柵進(jìn)行測量容易得多。

 

當(dāng)主光柵沿與刻線垂直方向移動一個柵距W時,莫爾條紋移動一個條紋間距。當(dāng)兩個光柵刻線夾角θ較小時,由上述公式可知,W一定時,θ愈小,則B愈大,相當(dāng)于把柵距W放大了1/ θ倍。因此,莫爾條紋的放大倍數(shù)相當(dāng)大,可以實現(xiàn)高靈敏度的位移測量。

 

莫爾條紋是由光柵的許多刻線共同形成的,對刻線誤差具有平均效應(yīng),能在很大程度上消除由于刻線誤差所引起的局部和短周期誤差影響,可以達(dá)到比光柵本身刻線精度更高的測量精度。因此,計量光柵特別適合于小位移、高精度位移測量。

 

 

 

 

 

 

 

 

(來源:網(wǎng)絡(luò),版權(quán)歸原作者)

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