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池田屋實(shí)業(yè)(深圳)有限公司
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折光儀原理當(dāng)我們想到折光儀時(shí)，我們經(jīng)常聽到糖度計(jì)。許多常用的糖量計(jì)都使用這種方法，當(dāng)光通過(guò)棱鏡照射到樣品上時(shí)，每個(gè)樣品的光反射角度都會(huì)發(fā)生變化。當(dāng)然，這個(gè)角度會(huì)根據(jù)樣品的濃度而變化。通過(guò)測(cè)量這種光的折射（折射率），可以用作各種密度計(jì)。原理當(dāng)光從折射率高的材料傳遞到折射率低的材料時(shí)，其方向會(huì)發(fā)生變化。根據(jù)斯涅耳定律，隨著光的入射角β增大，出射角α增大，當(dāng)出射角α達(dá)到90度（臨界角）時(shí)，界面處發(fā)生全內(nèi)反射。實(shí)際的折光儀中，如右圖所示排列有光源、棱鏡（nD=1.768）和線傳感器CCD，通過(guò)線傳感器C
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電位自動(dòng)滴定儀原理滴定是一種分析方法，其中將已知濃度的試劑溶液施加到樣品上并測(cè)定反應(yīng)試劑的體積。以前，將試劑滴入玻璃滴定管中，通過(guò)指示劑的顏色變化來(lái)確定終點(diǎn)。自動(dòng)電位滴定儀自動(dòng)分配試劑、確定終點(diǎn)、計(jì)算濃度！利用樣品中的待測(cè)物質(zhì)與已知濃度的試劑之間的定量反應(yīng)，通過(guò)滴下試劑并確定消耗的試劑量，可以測(cè)量樣品中含有多少待測(cè)物質(zhì)。直到達(dá)到等值點(diǎn)為止。原理在手動(dòng)分析中，指示劑用于通過(guò)顏色變化來(lái)檢測(cè)當(dāng)量點(diǎn)（終點(diǎn)）。此外，滴定儀使用電極根據(jù)電位(pH)的變化來(lái)檢測(cè)等當(dāng)點(diǎn)（終點(diǎn)）。用途化學(xué)工業(yè)[質(zhì)量控制/檢查/測(cè)
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卡爾費(fèi)休法的原理是什么爾費(fèi)休法是基于卡爾費(fèi)休反應(yīng)中水和碘以1:1的摩爾比進(jìn)行定量反應(yīng)的原理。脫水溶劑的主要成分是醇(ROH)、二氧化硫(SO2)、堿(RN)。醇和二氧化硫在脫水溶劑中反應(yīng)，產(chǎn)生烷基亞硫酸根陰離子(SO3R-)。該烷基亞硫酸根陰離子以[RNH]SO3R的形式存在，在脫水溶劑中被堿中和。滴定反應(yīng)如下所示。[RNH]SO3R被碘氧化時(shí)會(huì)消耗水。由于該反應(yīng)是定量進(jìn)行的，因此可以根據(jù)消耗的碘量來(lái)確定水的量。干擾反應(yīng)例如，酮和醛與甲醇反應(yīng)生成水。通過(guò)使用脫水酮溶劑和不含甲醇的陽(yáng)極電解液可以抑
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什么是離子色譜法？離子色譜被定位為一種測(cè)量離子物質(zhì)成分的液相色譜。該方法使用洗脫液作為流動(dòng)相、離子交換劑作為固定相，在填充柱中分離樣品溶液中的離子物質(zhì)。電導(dǎo)率檢測(cè)器通常用于檢測(cè)離子物種，但根據(jù)目的，也使用紫外-可見吸收檢測(cè)器和電化學(xué)檢測(cè)器以及液相色譜法。離子色譜法的應(yīng)用范圍很廣，包括環(huán)境水和廢水的質(zhì)量控制，以及食品領(lǐng)域的大氣環(huán)境測(cè)量和質(zhì)量控制，因?yàn)樗梢酝瑫r(shí)進(jìn)行多組分分析，并且不易受環(huán)境影響。它是一種在許多領(lǐng)域中使用的分析方法。此外，測(cè)量的目標(biāo)成分包括無(wú)機(jī)陽(yáng)離子和陰離子、低級(jí)胺、重金屬離子、有機(jī)
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東亞電波TOA-DKK 面板式pH/ORP控制器 HBM-100B (pH)
東亞電波TOA-DKK面板式pH/ORP控制器HBM-100B(pH)測(cè)量項(xiàng)目酸堿度氧化還原電位緊湊型DIN96尺寸面板安裝pH/ORP控制器自動(dòng)判定電極特性的好壞顯示屏具有LED背光測(cè)量范圍pH計(jì)(HBM-100B)：pH-1至pH15ORP計(jì)(HBM-102B)：-2000至+2000mV優(yōu)勢(shì)品牌：CCS晰寫速SEN日森、EYE巖崎、REVOX萊寶克斯、SERIC索萊克SONIC索尼克、SANKO三高、NEWKON新光、HAYASHI林時(shí)計(jì)、NPM日脈NS日本科學(xué)、DRY-CABI東利繁、T -
NiF過(guò)濾器株式會(huì)社---電鍍工藝整體解決方案
NiF過(guò)濾器株式會(huì)社---電鍍工藝整體解決方案我們將介紹日本過(guò)濾器產(chǎn)品的主要領(lǐng)域和解決各種電鍍工藝問(wèn)題的產(chǎn)品使用示例。在要求高質(zhì)量的電鍍工藝中，電鍍化學(xué)品和清洗水的凈化過(guò)濾至關(guān)重要。NipponFilter自成立以來(lái)一直致力于生產(chǎn)精密過(guò)濾機(jī)、過(guò)濾器外殼和各種濾芯，為每種應(yīng)用提供最佳過(guò)濾效果。根據(jù)處理量，我們還提供一系列提高清洗水精度的純水生產(chǎn)設(shè)備，以及工藝過(guò)程中排放的電鍍廢水的回收設(shè)備。此外，我們還擁有膜分離設(shè)備，可以在最終排放前使用我們自己的精密過(guò)濾膜可靠地處理含重金屬?gòu)U水，并為電鍍過(guò)程中的所 -
什么是半導(dǎo)體晶圓？半導(dǎo)體晶圓是一種非常薄的平板，通常在半導(dǎo)體制造過(guò)程中由單晶硅制成。硅片是極薄而小的板材，量產(chǎn)的硅片直徑一般為8英寸（200毫米）或12英寸（300毫米）。順便說(shuō)一句，4英寸（100毫米）或更小的直徑專門用于研究目的。我們的薄膜成型設(shè)備基本上都是4英寸（100毫米）。半導(dǎo)體晶圓在現(xiàn)代電子設(shè)備和信息技術(shù)中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。這些薄盤狀基板是半導(dǎo)體器件制造的基礎(chǔ)，也是構(gòu)建先進(jìn)電子電路的基礎(chǔ)。為什么我們需要半導(dǎo)體晶圓半導(dǎo)體集成電路（IC）與晶圓密切相關(guān)。半導(dǎo)體集成電路將許多元件集成到
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什么是SiC半導(dǎo)體？SiC（碳化硅）是一種由硅和碳制成的化合物半導(dǎo)體，由于其優(yōu)異的性能在功率器件領(lǐng)域受到關(guān)注。Si是我們常見的半導(dǎo)體主流材料，但SiC有望成為性能超越Si的下一代半導(dǎo)體材料。與硅類似，SiC可以形成柵氧化膜(SiO2)和p型層。因此，可以直接應(yīng)用在硅中開發(fā)的MOSFET（金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管）的結(jié)構(gòu)。這加速了SiC功率器件的發(fā)展，并使其在短時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)商業(yè)化成為可能。SiC半導(dǎo)體的特性和優(yōu)點(diǎn)功率半導(dǎo)體的性能由多種物理特性的平衡決定，包括擊穿場(chǎng)強(qiáng)、遷移率和導(dǎo)熱率?！癡arig
