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關(guān)于成像光譜技術(shù)對(duì)蘋果斑點(diǎn)及損傷快速識(shí)別研究

閱讀:3240      發(fā)布時(shí)間:2017-08-17
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 取蘋果黑斑區(qū)域、損傷區(qū)域、正常區(qū)域和背景各3個(gè)不同位置周邊50個(gè)像元,分別獲取這3個(gè)不同位置50個(gè)像元的光譜反射率,并求取這50個(gè)像元的反射率均值,如圖所示,其中,蘋果沒(méi)有損傷區(qū)域的光譜反射率在500-680 nm范圍內(nèi)高于損傷區(qū)域及黑斑區(qū)域的光譜反射率;在550-700nm范圍內(nèi),蘋果黑斑區(qū)域的光譜反射率較低;在580-700 nm范圍內(nèi),蘋果黑斑區(qū)域、損傷區(qū)域、正常區(qū)域的光譜存在較為顯著的波峰波谷,而背景無(wú)顯著特征。在550-680 nm范圍內(nèi),損傷區(qū)域的光譜反射率鑒于蘋果黑斑區(qū)域和正常區(qū)域之間,因此可以嘗試通過(guò)構(gòu)建植被指數(shù)和閾值分割方法快速識(shí)別出蘋果黑斑區(qū)域和損傷區(qū)域。

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北京卓立漢光儀器有限公司

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