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抗電磁干擾激光光幕靶的介紹

來(lái)源:成都科大勝英科技有限公司   2025年06月10日 10:54  

“抗電磁干擾激光光幕靶”是一種專門(mén)設(shè)計(jì)用于在強(qiáng)電磁干擾環(huán)境下穩(wěn)定、可靠工作的激光光幕探測(cè)系統(tǒng)。它在傳統(tǒng)激光光幕靶的基礎(chǔ)上,針對(duì)電磁兼容性進(jìn)行了重點(diǎn)強(qiáng)化,使其能夠在如火炮射擊、高壓放電、大功率雷達(dá)、電力開(kāi)關(guān)站等電磁環(huán)境極其惡劣的場(chǎng)合下正常工作,準(zhǔn)確探測(cè)彈丸(或物體)穿過(guò)光幕的時(shí)刻和位置。

以下是其關(guān)鍵特點(diǎn)、工作原理和實(shí)現(xiàn)抗電磁干擾的主要技術(shù)手段:

核心目標(biāo)

  • 高精度探測(cè): 精確測(cè)量彈丸穿過(guò)光幕的時(shí)刻(測(cè)速)和位置(坐標(biāo))。

  • 強(qiáng)抗擾能力: 在強(qiáng)電磁輻射、瞬態(tài)脈沖干擾下,系統(tǒng)不誤觸發(fā)、不漏報(bào),輸出信號(hào)穩(wěn)定可靠。

  • 環(huán)境適應(yīng)性: 適應(yīng)野外、試驗(yàn)場(chǎng)、工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)等復(fù)雜環(huán)境。

基本工作原理(與傳統(tǒng)光幕靶類似)

  1. 光幕形成: 由發(fā)射端發(fā)出一束或多束(通常為平行或扇形的)激光,照射到對(duì)面的接收端。發(fā)射端和接收端之間形成一道(或多道)不可見(jiàn)的“光墻”。

  2. 光電轉(zhuǎn)換: 接收端的光電探測(cè)器(如PIN光電二極管、雪崩光電二極管 - APD)將接收到的恒定光信號(hào)轉(zhuǎn)換為微弱的電信號(hào)(電流)。

  3. 信號(hào)處理:

    • 前置放大: 對(duì)微弱的電流信號(hào)進(jìn)行初步放大(通常為跨阻放大器)。

    • 主放大與濾波: 進(jìn)一步放大信號(hào),并通過(guò)濾波器去除背景噪聲(如環(huán)境光干擾、高頻噪聲)。

    • 閾值比較: 當(dāng)沒(méi)有物體穿過(guò)光幕時(shí),接收到的光信號(hào)強(qiáng),輸出高電平(或穩(wěn)定值)。當(dāng)彈丸穿過(guò)光幕遮擋部分或全部光線時(shí),接收端信號(hào)強(qiáng)度突然下降。

    • 觸發(fā)輸出: 信號(hào)強(qiáng)度的下降超過(guò)設(shè)定的閾值時(shí),比較器產(chǎn)生一個(gè)陡峭的邊沿信號(hào)(通常是下降沿),作為彈丸穿過(guò)光幕的觸發(fā)信號(hào)輸出。

  4. 數(shù)據(jù)輸出: 觸發(fā)信號(hào)(包含時(shí)間戳和位置信息)被采集系統(tǒng)記錄,用于計(jì)算彈丸速度、坐標(biāo)等參數(shù)。

“抗電磁干擾”的關(guān)鍵技術(shù)實(shí)現(xiàn)

這是此類光幕靶的核心價(jià)值所在,主要從以下幾個(gè)方面著手:

  1. 光路設(shè)計(jì)與光源選擇:

    • 高功率/窄脈沖激光器: 使用功率更高或脈寬更窄的激光器,提高信號(hào)強(qiáng)度(信噪比),使干擾信號(hào)相對(duì)更弱。

    • 特定波長(zhǎng) & 窄帶濾光: 選擇特定波長(zhǎng)(如紅外)激光,并在接收端使用非常窄的帶通光學(xué)濾光片,只允許激光波長(zhǎng)通過(guò),極大抑制環(huán)境光和其他波長(zhǎng)光源的干擾(這也是抵抗非電磁干擾的重要手段)。

    • 精密準(zhǔn)直: 保證光束高度平行和聚焦,提高光能利用率,減少散射光干擾。

  2. 電路設(shè)計(jì) - 核心抗干擾環(huán)節(jié):

    • 硬件濾波: 在信號(hào)鏈路的多個(gè)環(huán)節(jié)(前置放大后、主放大前后、比較器前)設(shè)置不同截止頻率的低通、帶通濾波器,專門(mén)針對(duì)電磁干擾的典型頻段(如高頻噪聲、開(kāi)關(guān)電源噪聲)進(jìn)行濾除。模擬濾波是抗EMI的第一道防線。

    • 數(shù)字濾波: 對(duì)于數(shù)字化后的信號(hào)或觸發(fā)邏輯,采用軟件算法(如移動(dòng)平均、中值濾波、小波去噪)進(jìn)一步去除干擾毛刺。這通常在微控制器或FPGA中實(shí)現(xiàn)。

    • 低噪聲、高共模抑制比設(shè)計(jì): 前置放大器(尤其是跨阻放大器)采用低噪聲器件和設(shè)計(jì),并具有高的共模抑制比,能有效抑制電源波動(dòng)和共模干擾。

    • 多重濾波:

    • 差分信號(hào)傳輸: 在接收端內(nèi)部電路(從探測(cè)器到處理電路)和/或接收端到外部采集設(shè)備之間,盡可能采用差分信號(hào)傳輸(如LVDS),利用其強(qiáng)大的抗共模干擾能力。

    • 精確閾值設(shè)置與遲滯: 比較器電路設(shè)置合適的觸發(fā)閾值,并加入遲滯功能,防止信號(hào)在閾值附近抖動(dòng)引起的誤觸發(fā)。

    • 智能觸發(fā)邏輯: 結(jié)合多道光幕的邏輯關(guān)系(如“與”邏輯)來(lái)判斷是否為真實(shí)彈丸穿過(guò),而非單點(diǎn)干擾。例如,只有相鄰兩道(或多道)光幕在極短時(shí)間內(nèi)相繼被遮擋才判定為有效觸發(fā)。

  3. 電磁屏蔽與接地:

    • 全金屬屏蔽外殼: 發(fā)射端和接收端的外殼采用導(dǎo)電性良好的金屬材料(如鋁合金、銅)制造,并確保所有接縫處良好接觸(使用EMI襯墊),形成完整的法拉第籠,屏蔽外部電磁波進(jìn)入內(nèi)部電路。這是硬件層面抗EMI有效的手段之一。

    • 關(guān)鍵電路局部屏蔽: 對(duì)內(nèi)部最敏感的前置放大電路等部分,可增加額外的局部屏蔽罩。

    • 信號(hào)線屏蔽: 所有外部連接線(電源線、信號(hào)輸出線)必須使用屏蔽電纜。屏蔽層在設(shè)備端單點(diǎn)良好接地,避免形成地環(huán)路引入干擾。

    • 科學(xué)接地系統(tǒng): 建立低阻抗、單點(diǎn)或混合接地系統(tǒng)(根據(jù)具體情況設(shè)計(jì)),確保干擾電流有良好的泄放路徑,避免在信號(hào)地上產(chǎn)生壓降干擾信號(hào)。設(shè)備外殼、電纜屏蔽層、內(nèi)部電路地的連接需精心設(shè)計(jì)。

  4. 電源管理:

    • 低噪聲線性電源: 優(yōu)先使用低噪聲的線性穩(wěn)壓電源為敏感模擬電路供電,避免開(kāi)關(guān)電源的紋波噪聲。

    • 開(kāi)關(guān)電源的優(yōu)化: 若必須使用開(kāi)關(guān)電源(效率高、功率大),則需選用高品質(zhì)、低EMI的模塊,并加強(qiáng)其輸出端的濾波(π型濾波、共模電感)。

    • 電源隔離: 在電源輸入端加入電源隔離模塊(如隔離變壓器、DC-DC隔離模塊),切斷傳導(dǎo)干擾的路徑。

    • 去耦電容: 在芯片電源引腳就近放置適當(dāng)容值的去耦電容(通常大小電容并聯(lián)),為高頻噪聲提供低阻抗回路。

  5. 元器件與工藝選擇:

    • 多層板設(shè)計(jì)(至少4層),提供完整的地平面和電源平面。

    • 敏感模擬電路與數(shù)字電路分區(qū)布局。

    • 關(guān)鍵信號(hào)線(如探測(cè)器輸出到前置放大)盡量短,走線平滑,避免銳角。

    • 良好的電源分配網(wǎng)絡(luò)設(shè)計(jì)。

    • 必要時(shí)對(duì)關(guān)鍵信號(hào)線進(jìn)行包地處理。

    • 高EMC等級(jí)器件: 選擇本身電磁兼容性能好的元器件。

    • 高質(zhì)量PCB設(shè)計(jì):

應(yīng)用場(chǎng)景

  • 測(cè)試: 火炮、器械的彈丸初速測(cè)量(測(cè)速靶)、立靶密集度測(cè)量(坐標(biāo)靶)是最主要的應(yīng)用場(chǎng)景,這些場(chǎng)合電磁干擾(炮口電弧、雷達(dá)、通信設(shè)備)非常強(qiáng)。

  • 高壓電氣設(shè)備測(cè)試: 在高壓開(kāi)關(guān)分合閘、電弧實(shí)驗(yàn)等場(chǎng)合,監(jiān)測(cè)電弧發(fā)生位置或高速飛濺物。

  • 工業(yè)自動(dòng)化: 在存在大功率變頻器、電焊機(jī)、感應(yīng)加熱等強(qiáng)干擾源的工廠環(huán)境中,進(jìn)行高速物體計(jì)數(shù)、位置檢測(cè)或安全防護(hù)。

  • 特殊環(huán)境科研: 需要在強(qiáng)電磁場(chǎng)環(huán)境中進(jìn)行高速運(yùn)動(dòng)物體探測(cè)的科學(xué)研究。




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