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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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掩膜曝光光刻機(jī)

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烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

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紫外臭氧清洗機(jī)

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壓片機(jī)/液壓機(jī)

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干冰清洗機(jī)

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光學(xué)試劑

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    膜厚監(jiān)測儀

    離子濺射儀

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    密度測試儀

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    光譜儀

    太陽光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機(jī)

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    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測量單元

    太陽能電池IV測試系統(tǒng)

    太陽模擬器

    LED測量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    鍍膜設(shè)備

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
    機(jī):
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
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    共計(jì) 603 條產(chǎn)品信息

    產(chǎn)品圖片 產(chǎn)品名稱
    PKP-308PIKemLab負(fù)性光刻膠
    PKP-308PIKemLab負(fù)性光刻膠
    簡單介紹:美國KemLab負(fù)性光刻膠 PKP-308PI 具有改進(jìn)的分辨率、附著力、耐蝕刻性、低針孔密度,是負(fù)性光刻膠中綜合性能最佳的選擇。在使用過程中無需對光刻膠進(jìn)行膜過濾。可實(shí)現(xiàn)微米級別的分辨率,且在生產(chǎn)中光刻膠工藝能保持高度可重復(fù)性。
    產(chǎn)品型號:PKP-308PI   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-19
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    HARE SQ美國KemLab負(fù)性光刻膠
    HARE SQ美國KemLab負(fù)性光刻膠
    簡單介紹:美國KemLab負(fù)性光刻膠 HARE SOTM是一種基于環(huán)氧樹脂的負(fù)型光阻,專為聚合物MEMS、微流體、微機(jī)械加工以及其他微電子應(yīng)用而設(shè)計(jì)。
    產(chǎn)品型號:HARE SQ   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-19
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    PermabondUV670紫外光固化粘合劑
    PermabondUV670紫外光固化粘合劑
    簡單介紹:PermabondUV670紫外光固化粘合劑
    特點(diǎn)和優(yōu)勢
    按需固化
    柔韌,抗沖擊性好
    低功率燈快速固化
    100%固體,無溶劑
    對金屬和玻璃的附著力


    描述
    PERMABOND UV670是一種單組分、快速固化的紫外光固化粘合劑。固化的粘合劑堅(jiān)韌、柔韌并具有優(yōu)異的抗沖擊性。
    Permabond UV670非常適合將玻璃粘合到金屬和金屬化塑料上。
    產(chǎn)品型號:PermabondUV670   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-18
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    Permabond紫外光固化粘合劑
    Permabond紫外光固化粘合劑
    簡單介紹:Permabond紫外光固化粘合劑
    Permabond UV固化膠是單組分、按需固化的膠粘劑,適用于多種基材的粘接。在暴露于UV光后,Permabond U固化膠會(huì)在數(shù)秒內(nèi)固化至高強(qiáng)度。

    Permabond紫外線固化粘合劑適用于各種應(yīng)用。
    它們對于玻璃與玻璃或玻璃與金屬的粘合是的,并且對于承載接頭形成非常高強(qiáng)度的粘合,例如在玻璃家具和陳列柜中發(fā)現(xiàn)的那些。

    Permabond紫外線固化粘合劑
    產(chǎn)品型號:   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-18
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    KLT5300美國KemLab正性光刻膠
    KLT5300美國KemLab正性光刻膠
    簡單介紹:美國KemLab正性光刻膠 KLT 5300是一種專為i-Line、g-Line和寬帶應(yīng)用優(yōu)化的正型光阻。KLT 5300具有高靈敏度和高吞吐量,適用于集成電路制造。
    產(chǎn)品型號:KLT5300   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-17
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    KLT 6000KemLab 正性光刻膠
    KLT 6000KemLab 正性光刻膠
    簡單介紹:KemLab 正性光刻膠 KLT 6000 ,適用于 i-Line、寬帶或 g-Line 曝光。
    產(chǎn)品型號:KLT 6000   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-12
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    VS160UG II德國進(jìn)口budatec真空回流焊爐立式
    VS160UG II德國進(jìn)口budatec真空回流焊爐立式
    簡單介紹:德國進(jìn)口budatec真空回流焊爐立式 面向半導(dǎo)體與光伏精密制造需求開發(fā),集成真空焊接/燒結(jié)雙工藝模式,搭載±1.5℃超精度溫控模塊與160mm²加熱平臺,實(shí)現(xiàn)3K/s級溫變速率的動(dòng)態(tài)熱管理。德國原廠制造的智能化系統(tǒng)兼容多元工藝氣體環(huán)境,通過觸控式人機(jī)界面實(shí)現(xiàn)全流程數(shù)字化管控,同步優(yōu)化加工效率與設(shè)備維保便捷性
    產(chǎn)品型號:VS160UG II   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-06
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    VS160UG德國進(jìn)口budatec回流焊爐立柜式
    VS160UG德國進(jìn)口budatec回流焊爐立柜式
    簡單介紹:德國進(jìn)口budatec回流焊爐立柜式專為半導(dǎo)體與光伏行業(yè)設(shè)計(jì),提供高精度溫控和高效能加工。核心功能包括真空焊接和燒結(jié),支持多種工藝氣體適配。設(shè)備采用德國柏林制造,具備160×160mm²加熱區(qū)域及±1.5℃控溫精度,支持3K/s加熱/冷卻速率。配備智能工藝控制系統(tǒng)及圖形化界面,確保穩(wěn)定運(yùn)行并簡化維護(hù)流程。
    產(chǎn)品型號:VS160UG   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-06
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    VS160S II德國進(jìn)口budatec回流焊爐桌面式
    VS160S II德國進(jìn)口budatec回流焊爐桌面式
    簡單介紹:德國進(jìn)口budatec回流焊爐桌面式,專用于半導(dǎo)體器件與光伏組件的精密焊接及金屬燒結(jié)工藝。該設(shè)備搭載多通道獨(dú)立溫控模塊,配備每秒3開爾文溫變速率的快速熱循環(huán)系統(tǒng),集成可編程氣體流量控制器,實(shí)現(xiàn)全流程數(shù)字化控制。系統(tǒng)配置160mm²標(biāo)準(zhǔn)工藝臺面,支持450℃峰值焊接溫度,兼容氮?dú)獗Wo(hù)與N?/H?二元工藝氣體環(huán)境,其圖形化操作界面與智能維保預(yù)警系統(tǒng)可保障高
    產(chǎn)品型號:VS160S II   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-06
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    VS160S德國進(jìn)口budatec真空回流焊爐
    VS160S德國進(jìn)口budatec真空回流焊爐
    簡單介紹:德國進(jìn)口budatec真空回流焊爐,專為半導(dǎo)體和光伏器件的焊接與燒結(jié)工藝設(shè)計(jì)。具備高精度溫控、快速升降溫(3K/s)及靈活的氣體流量編程控制,支持全數(shù)字化工藝管理。設(shè)備采用160×160mm²工作臺,最高焊接溫度達(dá)450℃,并提供氮?dú)饧暗獨(dú)浠旌蠚庵С?。其多通道溫控、圖形化界面及智能維護(hù)功能確保高效穩(wěn)定運(yùn)行,適用于精密焊接需求。
    產(chǎn)品型號:VS160S   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-06
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    L2006ossila浸涂機(jī)Dip Coating
    L2006ossila浸涂機(jī)Dip Coating
    簡單介紹:ossila浸涂機(jī)Dip Coating是一款專為研究人員設(shè)計(jì)的高性能薄膜涂覆設(shè)備,具有高精度電機(jī)、平穩(wěn)運(yùn)動(dòng)及廣泛的基材兼容性等優(yōu)點(diǎn)。其速度范圍廣,從0.01mm/s到50mm/s,確保了不同厚度的涂層需求。
    產(chǎn)品型號:L2006   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-06
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    L2006Aossila浸涂機(jī)Dip Coater
    L2006Aossila浸涂機(jī)Dip Coater
    簡單介紹:ossila浸涂機(jī)Dip Coater通過0.01-50mm/s精密調(diào)速(速率重復(fù)性±0.01%@1mm/s)結(jié)合嵌入式控制軟件(10組×20程序),實(shí)現(xiàn)100mm行程內(nèi)±0.3%運(yùn)動(dòng)精度,緊湊結(jié)構(gòu)(200×300×350mm)集成碰撞防護(hù)與99小時(shí)59分連續(xù)運(yùn)行能力,適配多元基材涂覆需求。
    產(chǎn)品型號:L2006A   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-06
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    L2002ossila紫外臭氧清洗機(jī)UV Ozone Cleaner
    L2002ossila紫外臭氧清洗機(jī)UV Ozone Cleaner
    簡單介紹:ossila紫外臭氧清洗機(jī)UV Ozone Cleaner搭載4支150mm合成石英燈管(185nm/254nm雙波段輸出),通過紫外光解氧分子生成臭氧,實(shí)現(xiàn)有機(jī)污染物的非接觸式氧化分解。系統(tǒng)配備153mm直徑可溫控樣品臺,支持12mm厚度內(nèi)各類基材處理。
    產(chǎn)品型號:L2002   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-06
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    L2002Aossila紫外臭氧清洗機(jī)UVO
    L2002Aossila紫外臭氧清洗機(jī)UVO
    簡單介紹:ossila紫外臭氧清洗機(jī)UVO作為精密表面處理設(shè)備,通過高強(qiáng)度雙波段紫外光源(185nm/254nm)激發(fā)臭氧氧化反應(yīng),實(shí)現(xiàn)有機(jī)污染物的無損傷分解與揮發(fā),可在多元基材(石英/硅/金屬/玻璃等)表面獲得原子級潔凈度。系統(tǒng)配置153mm直徑溫控樣品臺,集成LCD雙模計(jì)時(shí)顯示(剩余/已用時(shí)間),內(nèi)置機(jī)械聯(lián)鎖與過熱保護(hù)機(jī)制,適用于表面能改性(親水化處理)、薄膜沉積預(yù)處理、精密器件清洗等關(guān)鍵工藝。
    產(chǎn)品型號:L2002A   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-06
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    L2001Ossila勻膠機(jī)旋涂儀
    L2001Ossila勻膠機(jī)旋涂儀
    簡單介紹:Ossila勻膠機(jī)旋涂儀以經(jīng)濟(jì)型設(shè)計(jì)融合實(shí)驗(yàn)室操作需求,采用免真空技術(shù)替代傳統(tǒng)真空泵/氮?dú)庖蕾?,通過特制凹槽托盤實(shí)現(xiàn)基片穩(wěn)定固定。設(shè)備集成10組可編程參數(shù)模塊,支持120-6000 RPM寬域調(diào)速及多工序流程設(shè)定,配備不銹鋼防腐蝕外殼與24V直流安全供電系統(tǒng),適配多種規(guī)格基片處理,在簡化操作流程的同時(shí)降低維護(hù)成本,滿足實(shí)驗(yàn)室精準(zhǔn)涂覆與耐用性需求。
    產(chǎn)品型號:L2001   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-06
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    L2001AOssila勻膠機(jī)Spin Coater
    L2001AOssila勻膠機(jī)Spin Coater
    簡單介紹:Ossila勻膠機(jī)Spin Coater 采用創(chuàng)新機(jī)械設(shè)計(jì),專為實(shí)驗(yàn)室環(huán)境研發(fā),具備精準(zhǔn)薄膜沉積能力。系統(tǒng)通過智能程序化控制實(shí)現(xiàn)120-6000 RPM無極調(diào)速,適配從結(jié)晶材料到超薄膜制備的多樣化實(shí)驗(yàn)需求。設(shè)備內(nèi)置水平校準(zhǔn)系統(tǒng)與免真空托盤,確保基材平整度與涂覆均勻性。
    產(chǎn)品型號:L2001A   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-06
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    Table Top加拿大進(jìn)口Plasmionique離子濺射鍍膜儀
    Table Top加拿大進(jìn)口Plasmionique離子濺射鍍膜儀
    簡單介紹:加拿大進(jìn)口Plasmionique離子濺射鍍膜儀,多功能薄膜沉積系統(tǒng),搭載Plasmionique公司研發(fā)的濺射陰極技術(shù),專為實(shí)現(xiàn)高靶材利用率而設(shè)計(jì),支持平衡與非平衡磁控配置,并提供圓形或矩形靶材適配方案。
    產(chǎn)品型號:Table Top   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-06
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    Table Top 4Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVD
    Table Top 4Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVD
    簡單介紹:Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVD,加拿大進(jìn)口桌面式設(shè)備,可支持MWPlasma微波等離子體和MWPECVD微波等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積。
    產(chǎn)品型號:Table Top 4   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-06
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    Table Top 2Plasmionique 支持電子束蒸發(fā)和熱蒸發(fā) 鍍膜
    Table Top 2Plasmionique 支持電子束蒸發(fā)和熱蒸發(fā) 鍍膜
    簡單介紹:Plasmionique 支持電子束蒸發(fā)和熱蒸發(fā) 鍍膜 ,加拿大進(jìn)口桌面式設(shè)備,可支持EBeam電子束蒸發(fā)和Thermal Evaporation熱蒸發(fā)
    產(chǎn)品型號:Table Top 2   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-06
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    Table Top 3Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIE
    Table Top 3Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIE
    簡單介紹:Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIE ,加拿大進(jìn)口桌面式設(shè)備,模塊化設(shè)計(jì),可支持ALD原子層沉積,CVD化學(xué)氣相沉積,PECVD??等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積和RIE??反應(yīng)離子刻蝕。
    產(chǎn)品型號:Table Top 3   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-06-06
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