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PECVD等離子沉積設備
參考價:面議
PECVD等離子沉積設備Depolab 200是SENTECH基本的等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備,它結(jié)合了用于均勻薄膜沉積的平行板電極設計和直接載...
型號: DEPOLAB 2... 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商所在地:北京市
對比
等離子沉積設備等離子沉積設備沉積等離子
2024/7/10 7:33:35684
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帶預真空室的化學氣相沉積設備
參考價:面議
帶預真空室的化學氣相沉積設備PECVD沉積設備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標準的化學氣...
型號: SI 500 PP... 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商所在地:北京市
對比
等離子沉積設備等離子沉積設備沉積等離子
2024/7/10 7:31:50631
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等離子沉積設備
參考價:面議
等離子沉積設備低刻蝕速率,高擊穿電壓,低應力、不損傷襯底以及在低于100°C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度,使得所沉積的薄膜具有優(yōu)異的性能。
型號: SI 500 D 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商所在地:北京市
對比
等離子沉積設備等離子沉積設備沉積等離子
2024/7/10 7:29:56564
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