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一、概述

ME-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù)，配置全自動Mapping測量模塊，通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量，快速實現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學參數(shù)自定義繪制化測量表征和分析。

全基片橢偏繪制化測量解決方案；

支持產(chǎn)品設(shè)計以及功能模塊定制化，一鍵繪制測量；

配置Mapping模塊，全基片自定義多點定位測量能力；

豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫，保證強大數(shù)據(jù)分析能力。

二、產(chǎn)品特點

采用氘燈和鹵素燈復(fù)合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；

高精度旋轉(zhuǎn)補償器調(diào)制、PCRSA配置，實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集；

具備全基片自定義多點自動定位測量能力，提供全面膜厚檢測分析報告；

數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料。

三、產(chǎn)品應(yīng)用

ME-Mapping光譜橢偏儀廣泛應(yīng)用OLED，LED，光伏，集成電路等工業(yè)應(yīng)用中,實現(xiàn)大尺寸全基片膜厚、光學常數(shù)以及膜厚分布快速測量與表征。

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