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技術(shù)文章

可變角度光譜橢偏儀(HO-SE-01)

閱讀:138          發(fā)布時(shí)間:2024-11-27

光譜橢偏儀廣泛用于薄膜分析和測量。Holmarc 的光譜橢偏儀采用旋轉(zhuǎn)分析儀橢偏技術(shù)來表征薄膜樣品。它使用高速 CCD 陣列檢測來收集整個(gè)光譜。它可以測量從納米厚度到幾十微米

的薄膜,以及從透明材料到吸收材料的光學(xué)特性。它能精確測量折射率、薄膜厚度和消光系數(shù)等光學(xué)常數(shù)。

                                                                                              規(guī)格

    光譜范圍:450 - 800 納米

    橢偏儀配置 :  RAE

    探測器:3648 像素 CCD 線性傳感器

    光譜分辨率:1 納米

    入射角:50 - 75 度(分辨率 0.1 度,自動(dòng)操作)

    樣品聚焦:自動(dòng)

    樣品厚度:0.3 毫米 - 8 毫米

    厚度測量范圍:20 納米 - 10 微米

    薄膜厚度分辨率:0.01 納米

    測量 R.I 的分辨率:0.001

    樣品校準(zhǔn) :  手動(dòng)傾斜

    樣品測量  自動(dòng)

    厚度分析:先進(jìn)的數(shù)學(xué)擬合算法

    軟件功能

    自動(dòng)操作

    自動(dòng)樣品聚焦

    用戶可擴(kuò)展材料庫

    數(shù)據(jù)可保存為 Excel 格式

    數(shù)學(xué)擬合算法

    多層厚度測量

    推導(dǎo)厚度和光學(xué)常數(shù)


橢偏原理



橢偏儀是一種高靈敏度的薄膜分析技術(shù)。其原理依賴于光從表面反射時(shí)偏振態(tài)的變化。


為了描述與電磁波電場方向相對應(yīng)的偏振態(tài),選擇了兩個(gè)方向作為參考,即 p 方向(平行)和 s 方向(垂直)。反射光在 p 方向和 s 方向的相位變化不同。橢偏儀可以測量這種偏振狀態(tài);


p = rp / rs = tan Ψe iΔ


其中,Ψ 和 Δ 分別是 p 和 s 分量的振幅比和相移。由于橢偏儀測量的是兩個(gè)值的比值,因此非常精確且可重復(fù)。


特點(diǎn)


    非破壞性和非接觸式技術(shù)


    分析單層和多層樣品


    精確測量超薄薄膜


    用于測量、建模和自動(dòng)操作的軟件


    統(tǒng)一的 (Ψ, Δ) 測量靈敏度





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