MKS Revolution RPS AX7690 遠程等離子源提供半導體晶圓加工所需的高性能和清潔的反應氣體源。創(chuàng)新的 R*evolution 是專門為“onwafer"應用設計的遠程等離子體源新系列中的產品，它結合了 MKS 經現場驗證的低場環(huán)形等離子體技術和強大的等離子體施加器設計，可產生超潔凈的原子中性粒子或部首。

原子自由基在許多工藝中都是十分重要的，例如光刻膠去除、晶圓預清洗以及薄膜氮化和氧化。自由基通常是通過產生等離子體而產生的。然而，相關的帶電粒子有時是不受歡迎的。為了避免這些不利影響，在外部產生等離子體并將自由基有效地輸送到處理室。

MKS Revolution RPS AX7690 遠程等離子源 反應氣體發(fā)生器將石英真空室、射頻電源和所有必要的控制裝置集成到一個緊湊、獨立的單元中，以便輕松直接安裝在工具的處理室上。其結果是獲得極其清潔的原子自由基源，從而在晶圓上產生所需的反應，同時大大降低了復雜性。R*evolution 遠程等離子體源可提供高達 6 kW 的等離子體功率，為工藝提供高自由基流量（高達 5 slm），從而使剝離或蝕刻速率比傳統(tǒng)微波系統(tǒng)快兩倍。由于其效率高且成本較低，R*evolution 遠程等離子體源可顯著降低總體投資和工具運營成本。此外，其較小的尺寸和簡單的設計有利于用戶輕松安裝、操作和維護。