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AD-3000MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備
| 參考價: | ￥ 13000 |
| 訂貨量: | 1件 |
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)- AD-3000 產(chǎn)品型號
- MIKASA/米卡薩 品牌
- 經(jīng)銷商 廠商性質(zhì)
- 成都市 所在地
訪問次數(shù)：58更新時間：2025-05-28 15:29:10
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產(chǎn)品簡介
顯影和蝕刻設(shè)備是半導(dǎo)體制造和微電子加工中的核心工藝裝備，主要用于圖形轉(zhuǎn)移和微納結(jié)構(gòu)加工。
產(chǎn)品介紹
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備 AD-3000
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備 AD-3000
顯影和蝕刻設(shè)備是半導(dǎo)體制造和微電子加工中的核心工藝裝備，主要用于圖形轉(zhuǎn)移和微納結(jié)構(gòu)加工。顯影設(shè)備通過化學(xué)溶液去除曝光后的光刻膠可溶部分，形成所需圖案；蝕刻設(shè)備則通過物理或化學(xué)方法去除未被光刻膠保護(hù)的基底材料，實現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移。
主要設(shè)備類型：
顯影設(shè)備：
噴淋式顯影機(jī)
浸漬式顯影機(jī)
超聲波輔助顯影機(jī)
蝕刻設(shè)備：
濕法蝕刻設(shè)備（化學(xué)溶液）
干法蝕刻設(shè)備（等離子體）
反應(yīng)離子蝕刻（RIE）
深硅蝕刻（DRIE）
設(shè)備優(yōu)點
工藝優(yōu)勢：
高分辨率圖形轉(zhuǎn)移
優(yōu)異的選擇比控制
低損傷加工
生產(chǎn)效益：
高吞吐量（最高300片/小時）
工藝穩(wěn)定性好（CPK>1.67）
設(shè)備利用率高（>90%）
成本優(yōu)勢：
材料消耗低
維護(hù)成本可控
能耗優(yōu)化
技術(shù)優(yōu)勢：
支持優(yōu)良節(jié)點工藝
兼容多種技術(shù)路線
便于工藝升級
質(zhì)量優(yōu)勢：
缺陷率低（<0.1%）
均勻性好（<3%）
重復(fù)性高
顯影和蝕刻設(shè)備作為微納制造的關(guān)鍵裝備，其技術(shù)水平直接決定了集成電路和微器件的性能與可靠性。隨著半導(dǎo)體技術(shù)節(jié)點的不斷推進(jìn)和新興應(yīng)用的涌現(xiàn)，新一代設(shè)備正向著更高精度、更高效率、更智能環(huán)保的方向發(fā)展。未來，這些設(shè)備將繼續(xù)在推動信息技術(shù)進(jìn)步、賦能新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展方面發(fā)揮不可替代的作用。
室 | 不銹鋼 | 轉(zhuǎn)速 | 0~3,000轉(zhuǎn)/分 |
基板尺寸 | φ1“ ~ φ12" （220×220mm） | 聯(lián) 鎖 | 真空吸附確認(rèn)傳感器 加工腔蓋聯(lián)鎖 噴嘴移動超限 限制器 |
化學(xué)泵送 | 加壓罐壓力泵 | ||
化學(xué)品排放 | 噴霧排放 （擺動噴嘴型） | 權(quán)力 | AC200V 三相 15A |
| 尺寸 （mm） 當(dāng)門打開時 | 720W×500H×520D 910H | ||
步數(shù) | 48 步 跳拷貝功能 | ||
| 程序模式 | 10 模式 | 重量 | 60 公斤 |
| 工藝（標(biāo)準(zhǔn)） | 開發(fā)商：1 個系統(tǒng)（2 個噴嘴） 沖洗：1 個系統(tǒng)（2 個噴嘴） 反 沖洗：1 個系統(tǒng) | 關(guān)鍵選項 | 化學(xué)溫度管理系統(tǒng) （加壓法） 各種基板支架 安裝工作臺 |
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